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Verfahren zur Herstellung eines Lithografiemaskenrohlings mit den Schritten: Bereitstellen eines Substrats; Ausbilden mindestens einer Lage aus einer Dünnschicht, die Molybdän, Silizium und Stickstoff enthält, auf dem Substrat; und Ausbilden einer Schicht zum Verhindern der Erzeugung von Ammoniumionen an mindestens einem Oberflächenabschnitt der Dünnschicht, wobei die Schicht zum Verhindern der Erzeugung von Ammoniumionen durch Ausführen einer Wärmebehandlung der Dünnschicht, die Molybdän, Silizium und Stickstoff enthält, in einer Atmosphäre hergestellt wird, die Sauerstoff enthält. |
