Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

摘要

Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung, die einen Grundkörper (12) und mehrere Spiegeleinheiten (10; 110) aufweist, die jeweils umfassen: – einen Spiegel (14), – eine Stelleinrichtung (22), mit dem sich die Ausrichtung des jeweiligen Spiegels relativ zu dem Grundkörper verändern lässt, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegeleinheiten ferner jeweils ein Festkörpergelenk umfassen, das mindestens ein Gelenkteil aufweist, das den Spiegel mit dem Grundkörper verbindet, dass das Gelenkteil zur Verringerung der Biegesteifigkeit in mehrere voneinander beabstandete Gelenkelemente (18; 118) unterteilt ist, und dass die Gelenkelemente (18; 118) stabförmig oder plattenförmig sind.