发明名称 |
被处理件的处理方法及处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种被处理件的处理方法及其处理装置,在设置于减压环境的处理室内的载置台上载置了被处理件的状态下,在对前述被处理件实施设定的处理的处理方法中,在前述载置台上未载置被处理件时,从所述处理室内与所述载置台对置的上部电极供给惰性气体,在前述载置台的载置面上形成气体层。 |
申请公布号 |
CN101038863B |
申请公布日期 |
2011.07.06 |
申请号 |
CN200710104480.6 |
申请日期 |
2002.02.15 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
西川浩 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种处理方法,在设置于减压环境的处理室内的载置台上载置被处理件的状态下,对所述被处理件实施设定的处理,其特征在于,在所述载置台上未载置被处理件时,从设置于所述载置台的多个传热气体供给孔向所述载置台上方喷出惰性气体,形成由被加温的热气体的所述惰性气体构成的气体层,以覆盖包含载置面的所述载置台,并且从所述处理室内与所述载置台对置的上部电极供给作为被加温的热气体的惰性气体,供给来自所述上部电极的所述惰性气体的惰性气体供给源与处理气体供给源分开设置。 |
地址 |
日本国东京都 |