发明名称 |
滤色器的制造方法、滤色器基板及滤色器 |
摘要 |
本发明提供一种滤色器的制造方法,其包括以下工序:按照至少覆盖形成于滤色器基板表面的黑色矩阵的方式,涂布光分解型的正型抗蚀剂从而形成抗蚀剂层的工序;从滤色器基板的背面对上述抗蚀剂层进行曝光的工序;将通过曝光而可溶化的抗蚀剂层洗涤除去,从而形成被由残留在上述黑色矩阵上的抗蚀剂层形成的孔壁(槽壁、隔壁)隔开的孔空间或槽空间(空孔)的工序;接着,对上述空孔赋予与滤色器的像素相对应的着色油墨从而形成着色膜的工序;从黑色矩阵侧进行曝光从而使由上述抗蚀剂层构成的隔壁可溶化而除去的工序。根据上述本发明,在具有像素的微细度、清晰度等图像特性优异的性能的滤色器的制造中,可解决工序繁杂、作业时间缩短化等问题,从而能够提供容易且经济地制造能够应对液晶显示器的大型化和小型化的滤色器的方法。 |
申请公布号 |
CN102119347A |
申请公布日期 |
2011.07.06 |
申请号 |
CN200980131153.7 |
申请日期 |
2009.08.10 |
申请人 |
大日精化工业株式会社 |
发明人 |
中村道卫;幸正弘;原田修;江木慎一郎;坂井尚之;山口俊夫 |
分类号 |
G02B5/20(2006.01)I;C09D11/00(2006.01)I;C09D11/10(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G03F7/023(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/20(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
陈建全 |
主权项 |
一种滤色器的制造方法,其特征在于,其包括以下工序:按照至少覆盖形成于滤色器基板表面的黑色矩阵的方式,涂布光分解型的正型抗蚀剂从而形成抗蚀剂层的工序(工序A);从滤色器基板的背面对所述抗蚀剂层进行曝光的工序(工序B);将通过曝光而可溶化的抗蚀剂层洗涤除去,从而形成被由残留在所述黑色矩阵上的抗蚀剂层形成的孔壁(槽壁、隔壁)隔开的孔空间或槽空间(空孔)的工序(工序C);接着,对所述空孔赋予与滤色器的像素相对应的着色油墨从而形成着色膜的工序(工序D);从黑色矩阵侧进行曝光,从而使由所述抗蚀剂层形成的隔壁可溶化而除去的工序(工序E)。 |
地址 |
日本东京 |