| 发明名称 | 真空镀膜机磁控溅射靶装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜机磁控溅射移动靶装置。本实用新型的真空镀膜机磁控溅射靶装置，包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶装置安装在移动装置上；牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置。本实用新型的真空镀膜机磁控溅射靶装置为移动式的磁控溅射靶，其结构简单，易于控制，镀膜均匀，尤其适用于大面积工件的镀膜。 | ||
| 申请公布号 | CN201890921U | 申请公布日期 | 2011.07.06 |
| 申请号 | CN201020628684.7 | 申请日期 | 2010.11.26 |
| 申请人 | 黄瑞安 | 发明人 | 黄瑞安 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人 | 廖平 |
| 主权项 | 一种真空镀膜机磁控溅射靶装置，其特征在于：其包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶安装在移动装置上，牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置。 | ||
| 地址 | 515735 广东省潮州市饶平县三饶镇三饶居委会城东路16号 | ||