发明名称 |
可辐射成像涂层、其形成方法和在衬底上形成图像的方法与系统 |
摘要 |
可辐射成像涂层包含内含可辐射固化聚合物基质和布置在可辐射固化聚合物基质中的活化剂的第一相,不溶地分布在所述第一相中的第二相,第二相包含成色剂,和分布在所述第一相和第二相至少之一中的混杂天线染料包,其中所述混杂天线染料包至少包含具有高消光系数的第一天线染料和具有低消光系数的第二天线染料。 |
申请公布号 |
CN101563235B |
申请公布日期 |
2011.07.06 |
申请号 |
CN200680056724.1 |
申请日期 |
2006.12.19 |
申请人 |
惠普开发有限公司 |
发明人 |
V·卡斯珀基克;C·L·多什;M·P·戈尔 |
分类号 |
B41M5/46(2006.01)I;B41M5/30(2006.01)I |
主分类号 |
B41M5/46(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
庞立志;韦欣华 |
主权项 |
可辐射成像涂层,其包含:包含可辐射固化聚合物基质和布置在所述可辐射固化聚合物基质中的活化剂的第一相;不溶地分布在所述第一相中的第二相,所述第二相包含成色剂;和分布在所述第一相和第二相至少之一中的混杂天线染料包,其中所述混杂天线染料包至少包含具有高消光系数的第一天线染料和具有低消光系数的第二天线染料,其中所述第一天线染料具有大于100,000L M‑1cm‑1的消光系数;和所述第二天线染料具有小于100,000L M‑1cm‑1的消光系数。 |
地址 |
美国德克萨斯州 |