发明名称 |
基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的存储方法 |
摘要 |
本发明涉及基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的存储方法,属于存储器技术领域。所述存储方法采用热电子注入为编程方式,以FN隧穿为擦除方式,以读电流大小来区分00、01、10、11四种存储状态,从而可以在同样的面积下实现多值存储,使存储量增大两倍。本发明采用新的编程方式,在源漏两端同时编程操作,并形成多值存储,这大大地提高了编程效率,同时增大了存储窗口,实现更多点子的存储,并在同样大小的存储单元上实现了两倍于之前的存储量;另外,在实现此优点的同时并未改变制造工艺,大大降低了成本。 |
申请公布号 |
CN102117656A |
申请公布日期 |
2011.07.06 |
申请号 |
CN200910312948.X |
申请日期 |
2009.12.31 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
王琴;杨潇楠;刘明;王永 |
分类号 |
G11C16/04(2006.01)I;G11C16/10(2006.01)I |
主分类号 |
G11C16/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京市德权律师事务所 11302 |
代理人 |
王建国 |
主权项 |
一种基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的存储方法,其特征在于,所述方法包括:在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别施加第四电压、第三电压和第一电压,以在选中的存储器中存储二进制数据10;在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别施加第四电压、第一电压和第三电压,以在选中的存储器中存储二进制数据01;先在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别分别施加第四电压、第三电压和第一电压;然后在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别分别施加第四电压、第一电压和第三电压,以在选中的存储器中存储二进制数据00;或在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别分别施加第五电压、第一电压和第一电压,以在选中的存储器中存储二进制数据11。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |