发明名称 |
一种光阻清洗液的制备工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种光阻清洗液的制备工艺,其特征在于包括如下步骤:将光阻清洗液的各成分按其工作机理、功能、理化性质或共存稳定性分组,平行地将每组的成分分别进行混合,得到各中间预混物,对中间预混物进行质量控制检测,全部中间预混物检测合格后,进行混合,制得光阻清洗液。本发明的制备工艺缩短了大规模生产的工艺流程时间,极大地提高了产能,降低了生产成本,并且增加了工艺流程质量控制点,提高了质量控制水平,使产品质量保障得到极大提升,降低了生产质量事故风险,因而具有明显的经济价值。 |
申请公布号 |
CN102117021A |
申请公布日期 |
2011.07.06 |
申请号 |
CN200910247658.1 |
申请日期 |
2009.12.30 |
申请人 |
安集微电子(上海)有限公司 |
发明人 |
朱杰;胡建华 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
代理机构 |
上海翰鸿律师事务所 31246 |
代理人 |
李佳铭 |
主权项 |
一种光阻清洗液的制备工艺,其特征在于包括如下步骤:将光阻清洗液的各成分按其工作机理、功能、理化性质或共存稳定性分组,平行地将每组的成分分别进行混合,得到各中间预混物,对中间预混物进行质量控制检测,全部中间预混物检测合格后,进行混合,制得光阻清洗液。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 |