发明名称 一种光阻清洗液的制备工艺
摘要 本发明公开了一种光阻清洗液的制备工艺,其特征在于包括如下步骤:将光阻清洗液的各成分按其工作机理、功能、理化性质或共存稳定性分组,平行地将每组的成分分别进行混合,得到各中间预混物,对中间预混物进行质量控制检测,全部中间预混物检测合格后,进行混合,制得光阻清洗液。本发明的制备工艺缩短了大规模生产的工艺流程时间,极大地提高了产能,降低了生产成本,并且增加了工艺流程质量控制点,提高了质量控制水平,使产品质量保障得到极大提升,降低了生产质量事故风险,因而具有明显的经济价值。
申请公布号 CN102117021A 申请公布日期 2011.07.06
申请号 CN200910247658.1 申请日期 2009.12.30
申请人 安集微电子(上海)有限公司 发明人 朱杰;胡建华
分类号 G03F7/42(2006.01)I 主分类号 G03F7/42(2006.01)I
代理机构 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人 李佳铭
主权项 一种光阻清洗液的制备工艺,其特征在于包括如下步骤:将光阻清洗液的各成分按其工作机理、功能、理化性质或共存稳定性分组,平行地将每组的成分分别进行混合,得到各中间预混物,对中间预混物进行质量控制检测,全部中间预混物检测合格后,进行混合,制得光阻清洗液。
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