发明名称 高精度长焦距大视场投影光学系统
摘要 本发明属于一种光学系统,具体公开一种高精度长焦距大视场投影光学系统,它包括光源箱体、面阵光源、目标靶箱体、目标靶、反射棱镜箱体、反射棱镜、入射遮光镜筒、反射镜箱体、转向平面反镜、准直遮光镜筒和准直光学系统,光源箱体、依次与目标靶箱体、反射棱镜箱体、入射遮光镜筒、反射镜箱体、准直遮光镜筒和准直光学系统固定连接,面阵光源位于光源箱体内,目标靶位于目标靶箱体内,反射棱镜位于反射棱镜箱体内,转向平面反镜位于反射镜箱体内。本发明的系统加工成本低、难度小、便于装调。
申请公布号 CN102116935A 申请公布日期 2011.07.06
申请号 CN200910216994.X 申请日期 2009.12.31
申请人 北京控制工程研究所 发明人 徐熙平;张国玉;王大轶;郝云彩;黄翔宇
分类号 G02B27/18(2006.01)I 主分类号 G02B27/18(2006.01)I
代理机构 核工业专利中心 11007 代理人 高尚梅
主权项 一种高精度长焦距大视场投影光学系统,其特征在于:它包括光源箱体(17)、面阵光源(16)、目标靶箱体(25)、目标靶(15)、反射棱镜箱体(12)、反射棱镜(13)、入射遮光镜筒(10)、反射镜箱体(6)、转向平面反镜(7)、准直遮光镜筒(4)和准直光学系统(1),光源箱体(17)、依次与目标靶箱体(25)、反射棱镜箱体(12)、入射遮光镜筒(10)、反射镜箱体(6)、准直遮光镜筒(4)和准直光学系统(1)固定连接,面阵光源(16)位于光源箱体(17)内,目标靶(15)位于目标靶箱体(25)内,反射棱镜(13)位于反射棱镜箱体(12)内,转向平面反镜(7)位于反射镜箱体(6)内。
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