| 发明名称 | 一种硅片的清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片的清洗方法，其包括：将硅片放入用Anji-SCA清洗液与去离子水按1∶100混合液中。本发明的硅片的清洗方法有效降低硅片表面金属离子含量；确保了硅片很好的润湿效果；去除了硅片表面残留的颗粒；降低了表面张力。 | ||
| 申请公布号 | CN102114481A | 申请公布日期 | 2011.07.06 |
| 申请号 | CN200910247656.2 | 申请日期 | 2009.12.30 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 于昊;宫勇;兰育辉 |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种硅片的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括：步骤1：将硅片放入用Anji‑SCA清洗液与去离子水按1∶100混合液中。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||