| 发明名称 | 一种光刻胶清洗剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂，其含有：季铵氢氧化物，聚羧酸类缓蚀剂，芳基醇和/或其衍生物，二甲基亚砜，水以及除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。本发明的光刻胶清洗剂可有效除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有很低的腐蚀性，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN102117024A | 申请公布日期 | 2011.07.06 |
| 申请号 | CN200910247661.3 | 申请日期 | 2009.12.30 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 俞昌;王淑敏 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种光刻胶清洗剂，含有：季铵氢氧化物，聚羧酸类缓蚀剂，芳基醇和/或其衍生物，二甲基亚砜，水以及除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||