发明名称 | 一种光刻胶清洗剂组合物 | ||
摘要 | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物。这种光刻胶清洗剂组合物包含季铵氢氧化物,水,烷基二醇芳基醚,二甲基亚砜,缓蚀剂以及表面活性剂。这种光刻胶清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物,同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低,在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
申请公布号 | CN102117025A | 申请公布日期 | 2011.07.06 |
申请号 | CN200910247662.8 | 申请日期 | 2009.12.30 |
申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王淑敏;肖正龙;俞昌 |
分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
主权项 | 一种光刻胶清洗剂组合物,包含:季铵氢氧化物,水,烷基二醇芳基醚,二甲基亚砜,缓蚀剂以及表面活性剂。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 |