等离子体处理装置的聚焦环及具有聚焦环的等离子体处理装置

摘要

本发明涉及等离子体处理装置的聚焦环及具有聚焦环的等离子体处理装置。更具体而言，本发明涉及等离子体处理装置的聚焦环以及具有聚焦环的等离子体处理装置，该聚焦环能够通过在执行刻蚀工艺或沉积工艺而在等离子态中处理晶片的等离子体处理装置中有效地装载和卸载晶片或托盘来固定晶片或承载晶片的托盘。本发明的等离子体处理装置包括：处理室；卡盘，其设置在处理室中并竖直地致动；聚焦环，其安装在卡盘的外周上；以及夹具，其用于将置于卡盘上的晶片或晶片托盘固定至卡盘，其中，聚焦环由固定至聚焦环底座的第一聚焦环与固定至或置于卡盘的外周上的第二聚焦环的结合而形成，当卡盘下移时第二聚焦环比第一聚焦环下移得更多。

主权项

一种等离子体处理装置，包括：处理室；卡盘，所述卡盘设置在所述处理室中并竖直地致动；聚焦环，所述聚焦环安装在所述卡盘的外周上；以及夹具，所述夹具用于将置于所述卡盘上的晶片或晶片托盘固定至所述卡盘，其中，所述聚焦环是通过将固定至聚焦环底座的第一聚焦环与固定至或置于所述卡盘的外周上的第二聚焦环接合而形成的，并且当所述卡盘下移时所述第二聚焦环比所述第一聚焦环下移得更多。