| 主权项 |
一种电感结构，配置于一基底上方，包括：一第一螺旋状导线，具有一第一端与一第二端，该第二端旋入该第一螺旋状导线的内部，该第一螺旋状导线包括：多数条第一导线；以及一第一接合导线，连接相邻二第一导线；一第二螺旋状导线，与该第一螺旋状导线对称于一对称平面配置，该第二螺旋状导线具有一第三端与一第四端，该第四端旋入该第二螺旋状导线的内部且与该第一螺旋状导线的该第二端相连接，而形成2N圈的一螺旋回圈结构，其中该N为正整数，该第二螺旋状导线包括：多数条第二导线；以及一第二接合导线，连接相邻二第二导线，其中该第一接合导线与该第二接合导线交错于该对称平面上，且相距于该基底，该第一接合导线与该第二接合导线位于不同高度，而形成2N－1个交错处；以及至少一增益图案，配置于由外圈起算之第2N－1个交错处之该第一接合导线下方，并与对应之该第一接合导线电性连接。如申请专利范围第1项所述之电感结构，其中当该交错处为第奇数个交错处时，该第一接合导线通过该第二接合导线的下方。如申请专利范围第1项所述之电感结构，其中当该交错处为第偶数个交错处时，该第二接合导线通过该第一接合导线的下方。如申请专利范围第1项所述之电感结构，更包括该增益图案配置于该第1~(2N－2)个交错处的至少其中之一，且位于该交错处之位于下方的该接合导线下方。如申请专利范围第4项所述之电感结构，其中位于该第2N－1个交错处的该增益图案其配置数量大于位于其他交错处的该增益图案其配置数量。如申请专利范围第1项所述之电感结构，更包括该增益图案配置在每一个交错处之位于下方的该接合导线下方。如申请专利范围第6项所述之电感结构，其中位于该第2N－1个交错处的该增益图案其配置数量大于位于其他交错处的该增益图案其配置数量。如申请专利范围第7项所述之电感结构，其中位于其他交错处的该增益图案其配置数量相同。如申请专利范围第7项所述之电感结构，其中每一交错处所配置之该增益图案的数量，由内圈向外圈逐渐递减。一种电感结构，配置于一基底上方，包括：一第一螺旋状导线，具有一第一端与一第二端，该第二端旋入该第一螺旋状导线的内部，该第一螺旋状导线包括：多数条第一导线；以及一第一接合导线，连接相邻二第一导线；一第二螺旋状导线，与该第一螺旋状导线对称于一对称平面配置，该第二螺旋状导线具有一第三端与一第四端，该第四端旋入该第二螺旋状导线的内部且与该第一螺旋状导线的该第二端相连接，而形成2N＋1圈的一螺旋回圈结构，其中该N为正整数，该第二螺旋状导线包括：多数条第二导线；以及一第二接合导线，连接相邻二第二导线，其中该第一接合导线与该第二接合导线交错于该对称平面上，且相距于该基底，该第一接合导线与该第二接合导线位于不同高度，而形成2N个交错处；以及至少一增益图案，配置于由外圈起算之第2N个交错处之该第二接合导线下方，并与对应之该第二接合导线电性连接。如申请专利范围第10项所述之电感结构，其中当该交错处为第奇数个交错处时，该第一接合导线通过该第二接合导线的下方。如申请专利范围第10项所述之电感结构，其中当该交错处为第偶数个交错处时，该第二接合导线通过该第一接合导线的下方。如申请专利范围第10项所述之电感结构，更包括该增益图案配置于该第1~(2N－1)个交错处的至少其中之一，且位于该交错处之位于下方的该接合导线下方。如申请专利范围第13项所述之电感结构，其中位于该第2N个交错处的该增益图案其配置数量大于位于其他交错处的该增益图案其配置数量。如申请专利范围第10项所述之电感结构，更包括该增益图案配置在每一个交错处之位于下方的该接合导线下方。如申请专利范围第15项所述之电感结构，其中位于该第2N个交错处的该增益图案其配置数量大于位于其他交错处的该增益图案其配置数量。如申请专利范围第16项所述之电感结构，其中位于其他交错处的该增益图案其配置数量相同。如申请专利范围第16项所述之电感结构，其中每一交错处所配置之该增益图案的数量，由内圈向外圈逐渐递减。 |
