| 主权项 |
一种基板处理装置，其系具有对基板供给处理液而对基板实施特定之湿式处理之湿式处理室，且经由形成于上述湿式处理室之间隔壁上的基板搬送用的开口部而相对于上述湿式处理室进行基板之搬入搬出，该基板处理装置之特征在于包括：闸门机构，其开启及关闭上述开口部；以及气流形成机构，其包括配备于上述湿式处理室之室外的喷嘴构件，至少在上述开口部开口时，使气体从上述喷嘴构件喷出，藉此形成朝向上述开口部之气流。如请求项1之基板处理装置，其中作为上述闸门机构，包括第1闸门机构及第2闸门机构，上述第1闸门机构具备从上述湿式处理室之室内侧开启及关闭上述开口部之闸门本体，上述第2闸门机构具备从上述湿式处理室之室外侧开启及关闭上述开口部之闸门本体，上述气流形成机构从上述喷嘴构件对通过上述开口部之基板供给气体，藉此而于该基板之表面上形成自湿式处理室之室外侧向室内侧流动的气流。如请求项2之基板处理装置，其中具有邻接处理室，该邻接处理室经由上述开口部而连通于上述湿式处理室并且对基板实施上述湿式处理的前处理或者后处理，且该邻接处理室配备有上述第2闸门机构及上述喷嘴构件。如请求项2或3之基板处理装置，其中进一步具有闸门控制机构，该闸门控制机构在藉由上述闸门本体而闭止上述开口部之闭止状态及藉由使上述闸门本体退避到特定之退避位置而开放上述开口部之开放状态之间，切换控制上述各闸门机构之驱动状态，在基板通过上述开口部时，上述闸门控制机构在即将将上述第1闸门机构从闭止状态切换为开放状态之前，将上述第2闸门机构从闭止状态切换为开放状态。如请求项4之基板处理装置，其中进一步具有控制上述气流形成机构之气流形成控制机构，且该气流形成控制机构系同步于第1闸门机构之自闭止状态朝开放状态的切换动作而开始供给气体。如请求项2或3之基板处理装置，其中上述各闸门机构中之至少第2闸门机构系构成为藉由使上述闸门本体沿上述间隔壁之壁面滑动来开启及关闭上述开口部。如请求项3之基板处理装置，其中上述邻接处理室进一步具有：于该处理室内以包围上述开口部附近之方式所形成的预备室；以及将上述预备室内之环境气体进行排气的预备室排气机构。如请求项1之基板处理装置，其中作为上述湿式处理室，其构成为具有在基板搬送方向上排列之第1处理室以及第2处理室，并于各处理室中使用互为不同的处理液来对基板依序实施特定的湿式处理，且上述互为不同的处理液之间的关系要求为，抑制在进行基板处理时于一方侧之处理液中混入有另一方侧之处理液，在上述第1处理室与上述第2处理室之间设置有中间室，作为上述开口部，在上述第1处理室与中间室之间隔壁上设置有第1开口部，并在上述中间室与第2处理室之间隔壁上设置有第2开口部，且作为上述闸门机构，设置有分别开启及关闭上述第1、第2开口部之闸门机构，上述气流形成机构之构成为，于上述中间室具备上述喷嘴构件，且藉由使气体从上述喷嘴构件喷出而形成朝向对象开口部之气流，上述对象开口部系指上述第1开口部及第2开口部中之一方侧的开口部，将位于使用有上述另一方侧之处理液的处理室与中间室之间的开口部作为该对象开口部，该基板处理装置进一步设置有中间室排气机构，该中间室排气装置在上述气流形成机构之上述喷嘴构件与上述对象开口部之间的位置上具有排气口，并通过该排气口对上述中间室内进行排气。如请求项8之基板处理装置，其中于上述中间室设置有分隔壁，藉此将上述中间室之内部分隔为包含上述喷嘴构件之喷嘴室、及包含上述对象开口部以及排气口之排气室，且上述喷嘴构件系使气体通过设置于上述分隔壁上之基板搬送用的开口部而向上述排气室侧喷出。如请求项8或9之基板处理装置，其中上述气流形成机构从上述喷嘴构件来对通过上述对象开口部的基板供给气体，藉此形成沿上述基板表面自上述中间室侧朝处理室侧流动的气流。如请求项8或9之基板处理装置，其中上述互为不同的处理液系浓度不同之同类的处理液，且高浓度之处理液系于上述第1处理室中被使用，上述喷嘴构件系以上述第2开口部作为上述对象开口部而向该开口部喷出气体。如请求项11之基板处理装置，其中包括：对上述第1处理室内进行排气之处理室排气机构；以及为了再使用上述排气中所含有之雾液而将其加以捕集之捕集机构。 |
