发明名称 稠合杂环化合物
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.07.01
申请号 TW093134233 申请日期 2004.11.10
申请人 幸託製藥公司 美國 发明人 小野光则;孙利崇;和田裕美子 日本;帕札洛卡 泰瑞莎;李浩;戴克 林查利;庆马纳马达 帝南许U
分类号 A61K31/435;A61K31/4353;A61P37/00 主分类号 A61K31/435
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 一种以如下结构式之一表示之化合物:@sIMGTIF!d10102.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10103.TIF@eIMG!或其医药上可接受之盐,其中:U及V为N;X1、X2及X3为CRg;Z为N;W为O;u为0、1、2、3或4;X为O、N(Rk)、C(O)、C(O)NRk、(C(Rg)(Rg))m、NRkC(O)NRk、NRkC(S)NRk、NRkC(O)、NRkC(O)O、NRkC(NR)NRk或OC(O)NRk;R’为不存在;L’为N(Rk)、C(NR)NRk、C(O)NRk、N=C(Rg)或为不存在;R”为H、视需要可经取代之烷基、视需要可经取代之杂环基、视需要可经取代之芳基、视需要可经取代之杂芳基、视需要可经取代之芳烷基、视需要可经取代之杂芳烷基、或-ORk;Rg于各次出现时各自独立地为H或视需要可经取代之烷基;Rh及Rj于各次出现时各自独立地为H或视需要可经取代之烷基;或Rh及Rj与其附接之氮共同形成为视需要可经取代之杂环烷基;Rk于各次出现时各自独立地为H、视需要可经取代之烷基、视需要可经取代之杂环基、视需要可经取代之芳基、或视需要可经取代之杂芳基;m于各次出现时各自独立地为1、2、3、4、5、6、7或8;Y为O、S(O)2、N(Rk)或为不存在;R3为视需要可经取代之烷基、视需要可经取代之芳基、视需要可经取代之杂芳基、视需要可经取代之杂环烷基、视需要可经取代之杂环基、硝基、氰基、ORk、或NRhRj;R2及R4于各次出现时各自独立地为H、或视需要可经取代之烷基;G为不存在;以及n于各次出现时各自独立地为0、1、2、3、4、5、6、或7;「视需要可经取代之」基团例如烷基、芳基、芳烷基、杂芳基、杂芳烷基、环烷基、杂环烷基、或杂环基的取代基包括烷基、烯基、炔基、环基、环烷基、杂环基、杂环烷基、芳烷基、杂芳烷基、芳基、杂芳基、卤原子、卤烷基、氰基、硝基、烷氧基、芳氧基、羟基、羟基烷基、羧基、甲醯基、烷基羰基、烷基羰基烷基、烷氧羰基、烷基羰基氧基、芳氧基羰基、杂芳氧基、杂芳基氧羰基、巯基、巯基烷基、芳基磺醯基、胺基、胺基烷基、二烷基胺基、烷基羰基胺基、烷基胺基羰基、或烷氧羰基胺基;烷基胺基、芳基胺基、二芳基胺基、经芳基胺基取代之芳基;芳基烷基胺基、芳烷基胺基羰基、醯胺基、烷基胺基磺醯基、芳基胺基磺醯基、二烷基胺基磺醯基、烷基磺醯基胺基、芳基磺醯基胺基、亚胺基、甲醯胺基、胺基甲醯基、硫脲基、硫氰酸基、磺醯胺基、磺醯基烷基、磺醯基芳基、巯基烷氧基、CN、NO2、OR15、SR15、S(O)2OR15、NR15R16、C1-C2全氟烷基、C1-C2全氟烷氧基、1,2-亚甲基二氧基、(=O)、(=S)、(=NR15)、C(O)OR15、C(O)NR15R16、OC(O)NR15R16、NR15C(O)NR15R16、C(NR16)NR15R16、NR15C(NR16)NR15R16、S(O)2NR15R16、R17、C(O)H、C(O)R17、NR15C(O)R17、Si(R15)3、OSi(R15)3、Si(OH)2R15、B(OH)2、P(O)(OR15)2、S(O)R17、或S(O)2R17;各个R15各自独立地为氢、视需要经环烷基、芳基、杂环基或杂芳基取代之C1-C6烷基;各个R16各自独立地为氢、C3-C6环烷基、芳基、杂环基、杂芳基、C1-C4烷基或经C3-C6环烷基、芳基、杂环基或杂芳基取代之C1-C4烷基;各个R17各自独立地为C3-C6环烷基、芳基、杂环基、杂芳基、C1-C4烷基或经C3-C6环烷基、芳基、杂环基或杂芳基取代之C1-C4烷基;以及于R15、R16及R17之各个中之C3-C6环烷基、芳基、杂环基、杂芳基及C1-C4烷基视需要可经卤原子、CN、C1-C4烷基、OH、C1-C4烷氧基、COOH、C(O)OC1-C4烷基、NH2、C1-C4烷基胺基或C1-C4二烷基胺基取代。如申请专利范围第1项之化合物,其中R’及L’为不存在。如申请专利范围第2项之化合物,其中R”为视需要可经取代之芳基、视需要可经取代之杂环基或视需要可经取代之杂芳基。如申请专利范围第3项之化合物,其中R”为视需要可经取代之芳基或视需要可经取代之杂芳基。如申请专利范围第4项之化合物,其中R”系经一或多个选自低碳烷基、卤原子、低碳烷氧基、及低碳卤烷基组成之群组中之取代基取代。如申请专利范围第5项之化合物,其中R3为视需要可经取代之烷基、视需要可经取代之芳基、视需要可经取代之杂芳基、视需要可经取代之杂环烷基、硝基、氰基、卤原子、或ORk。如申请专利范围第6项之化合物,其中R3为视需要可经取代之芳基或视需要可经取代之杂芳基。如申请专利范围第7项之化合物,其中R3
地址 美国
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