| 主权项 |
一种浸润微影系统，包括：一影像镜头，具有一第一前表面；一基板底座，置于该影像镜头之该前表面下方；一浸润流体保持结构，具有至少一个流体部，被配置成用以保留来自一流体入口之一流体，以至少部分地填充位于该前表面与该基板底座上之一基板之间的一空间，且接收或排除通过该流体部之该流体，该流体部包括一流体出口；一储槽，连接该流体出口；以及一微粒监控模组，与该浸润流体保持结构整合，该微粒监控模组包括一第一流体微粒计数器，且该储槽连接于该流体出口与该第一流体微粒计数器之间。如申请专利范围第1项所述之浸润微影系统，更包括：一气体入口，连接该储槽，用以提供气体至该储槽。如申请专利范围第2项所述之浸润微影系统，其中该流体部包括一流体入口，且该微粒监控模组包括与该流体入口连接之一第二流体微粒计数器，用以监控流至该流体入口之该流体内的微粒。如申请专利范围第1项所述之浸润微影系统，其中该流体部包括一流体入口，该微粒监控模组更包括一第二流体微粒计数器，且该流体入口连接该第二流体微粒计数器以监控流至该流体入口之该流体内的微粒。如申请专利范围第1项所述之浸润微影系统，更包括：一数据处理模组，配置成用于收集来自该微粒监控模组之数据，分析该微粒结果之数据并将该微粒结果分类。如申请专利范围第5项所述之浸润微影系统，其中该微粒数据之分类步骤包括送出警讯。一种浸润微影系统，包括：一影像显示系统；一基板底座，置于该影像显示系统下方；一浸润流体保持结构，具有至少一个流体部，被配置成用以保留一流体，其中该流体至少部分地填充该影像显示系统与该基板底座上之一基板之间的一空间，该流体部包括一流体出口；一储槽，连接该浸润流体保持结构的该流体出口，用以接收该流体；一流体微粒计数器，该储槽连接于该流体微粒计数器与该流体出口之间，该流体微粒计数器系用以监控该流体内之微粒；以及一气体过滤器，连接该储槽，用以提供气体至该储槽，以与该流体微粒计数器一起使用。如申请专利范围第7项所述之浸润微影系统，更包括：一第一阀件，配置于该储槽与该浸润流体保持结构之间；一第二阀件，配置于该储槽与该流体微粒计数器之间；以及一第三阀件，配置于该气体过滤器与该储槽之间。如申请专利范围第7项所述之浸润微影系统，更包括：一控制器，设计成用以控制微粒监控程序，由该流体微粒计数器收集微粒数据，并处理该微粒数据。一种用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，包括：使一浸润流体流入一影像显示镜头与一基板底座上之一基板之间的一空间内，并通过一浸润流体保持模组；以及使该浸润流体依序流经该浸润流体保持模组的一浸润流体出口、与该浸润流体出口连接的一储槽、以及与该储槽连接的一第一流体微粒计数器，以监控从该空间流出之该浸润流体内之微粒。如申请专利范围第10项所述之用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，其中系使用一第二流体微粒计数器以在流入该空间之前监控该浸润流体内之微粒。如申请专利范围第10项所述之用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，其中该监控步骤更包括：打开连接于该储槽与该浸润流体保持模组之该浸润流体出口之间的一第一阀件，用以从该空间将该浸润流体填充该储槽；在以该浸润流体填充该储槽之后关闭该第一阀件；打开连接于一气体过滤器与该储槽之间的一第二阀件，用于提供一气体至该储槽；以该浸润流体维持该储槽一段期间；以及打开连接于该储槽与该第一流体微粒计数器之一第三阀件以使得该浸润流体流过该第一流体微粒计数器，并测量该浸润流体内之微粒。如申请专利范围第10项所述之用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，更包括照明该影像显示镜头以对该基板进行一微影曝光制程。如申请专利范围第10项所述之用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，更包括：由该第一流体微粒计数器收集数据；分析该数据以提供一微粒结果；以及将该微粒结果分类。如申请专利范围第14项所述之用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，其中将该微粒结果分类之步骤包括根据该微粒结果提供使用者警讯。如申请专利范围第14项所述之用于图案化半导体积体电路之浸润微影方法，其中该收集数据之步骤包括在资料库内储存该数据。 |
