| 主权项 |
一种摩擦装置，其特征在于其系具备：桌台，其系载置形成有配向膜之液晶显示元件基板者；台面，固定前述桌台；基座；及摩擦滚筒，其系于圆筒状之滚筒之外周面，安装摩擦布者；并一面移动前述台面，一面以旋转之摩擦滚筒，摩擦前述配向膜之表面者；且前述台面为了均匀地摩擦前述配向膜，系藉由以直线状配置于前述基座之多数之磁铁及对向于前述磁铁而配置于前述台面之线圈所产生之磁力之推力，使前述台面移动之机构之线性马达驱动而直线状以一定速度移动者。一种摩擦装置，其特征在于其系具备：桌台，其系载置形成有配向膜之液晶显示元件基板者；台面，固定前述桌台；基座；及摩擦滚筒，其系于圆筒状之滚筒之外周面，安装摩擦布者；并一面移动前述台面，一面以旋转之摩擦滚筒，摩擦前述配向膜之表面者；且前述台面为了均匀地摩擦前述配向膜，系藉由以直线状配置于前述基座之多数之磁铁及对向于前述磁铁而配置于前述台面之线圈所产生之磁力之推力，使前述台面移动之机构之线性马达驱动而直线状以一定速度移动者，且调整前述摩擦滚筒之设定位置，以便以特定压力相接于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板。一种摩擦装置，其特征在于其系具备：桌台，其系载置形成有配向膜之液晶显示元件基板者；台面，固定前述桌台；基座；及摩擦滚筒，其系于圆筒状之滚筒之外周面，安装摩擦布者；并一面移动前述台面，一面以旋转之摩擦滚筒，摩擦前述配向膜之表面者；且前述台面为了均匀地摩擦前述配向膜，系藉由以直线状配置于前述基座之多数之磁铁及对向于前述磁铁而配置于前述台面之线圈所产生之磁力之推力，使前述台面移动之机构之线性马达驱动而直线状以一定速度移动者，且调整前述摩擦滚筒之设定位置，以便以特定压力相接于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板，且以前述摩擦滚筒的一定速度开始旋转。一种摩擦装置，其特征在于其系具备：桌台，其系载置形成有配向膜之液晶显示元件基板者；台面，固定前述桌台；基座；及摩擦滚筒，其系于圆筒状之滚筒之外周面，安装摩擦布者；并一面移动前述台面，一面以旋转之摩擦滚筒，摩擦前述配向膜之表面者；且前述台面为了均匀地摩擦前述配向膜，系藉由以直线状配置于前述基座之多数之磁铁及对向于前述磁铁而配置于前述台面之线圈所产生之磁力之推力，使前述台面移动之机构之线性马达驱动而直线状以一定速度移动者，且形成于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板之前述配向膜系一面接受旋转之前述摩擦滚筒之压力，一面以一定方向、一定速度而移动。一种摩擦装置，其特征在于其系具备：桌台，其系载置形成有配向膜之液晶显示元件基板者；台面，固定前述桌台；基座；及摩擦滚筒，其系于圆筒状之滚筒之外周面，安装摩擦布者；并一面移动前述台面，一面以旋转之摩擦滚筒，摩擦前述配向膜之表面者；且前述台面为了均匀地摩擦前述配向膜，系藉由以直线状配置于前述基座之多数之磁铁及对向于前述磁铁而配置于前述台面之线圈所产生之磁力之推力，使前述台面移动之机构之线性马达驱动而直线状以一定速度移动者，且调整前述摩擦滚筒之设定位置，以便以特定压力相接于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板，且形成于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板之前述配向膜系一面接受旋转之前述摩擦滚筒之压力，一面以一定方向、一定速度而移动。一种摩擦装置，其特征在于其系具备：桌台，其系载置形成有配向膜之液晶显示元件基板者；台面，固定前述桌台；基座；及摩擦滚筒，其系于圆筒状之滚筒之外周面，安装摩擦布者；并一面移动前述台面，一面以旋转之摩擦滚筒，摩擦前述配向膜之表面者；且前述台面为了均匀地摩擦前述配向膜，系藉由以直线状配置于前述基座之多数之磁铁及对向于前述磁铁而配置于前述台面之线圈所产生之磁力之推力，使前述台面移动之机构之线性马达驱动而直线状以一定速度移动者，且调整前述摩擦滚筒之设定位置，以便以特定压力相接于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板之后，以前述摩擦滚筒的一定速度开始旋转，且形成于载置于前述桌台之前述液晶显示元件基板之前述配向膜系一面接受旋转之前述摩擦滚筒之压力，一面以一定方向、一定速度而移动。如申请专利范围第1~6项中任一项所述之摩擦装置，其中于该摩擦滚筒之两端部支持前述摩擦滚筒之支持体之形状为先端部大致圆锥台，于设置于前述摩擦滚筒之两端部之凹部，嵌合前述支持体之先端部，可旋转地支持前述摩擦滚筒。如申请专利范围第7项所述之摩擦装置，其中前述支持体的大致圆锥台形状之母线之延长线与中心线所形成之角度为10°~20°。如申请专利范围第1~6项中任一项所述之摩擦装置，其中可一次摩擦形成于纵及横之尺寸均在1500mm以上之大的前述液晶显示元件基板之配向膜。如申请专利范围第7项所述之摩擦装置，其中可一次摩擦形成于纵及横之尺寸均在1500mm以上之大的前述液晶显示元件基板之配向膜。如申请专利范围第8项所述之摩擦装置，其中可一次摩擦形成于纵及横之尺寸均在1500mm以上之大的前述液晶显示元件基板之配向膜。 |
