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经营范围
发明名称
Method for fabricating gate of transistor
摘要
申请公布号
KR101045374(B1)
申请公布日期
2011.06.30
申请号
KR20090016962
申请日期
2009.02.27
申请人
发明人
分类号
H01L21/336;H01L21/306
主分类号
H01L21/336
代理机构
代理人
主权项
地址
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