发明名称 Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur der Messwerte optischer Ausrichtsysteme mit mindestens zwei Messebenen, die im Strahlengang hintereinander angeordnet sind. Dabei wird von jeder Messebene aus der Strahlengang zur Lichtquelle zurücktransformiert, um anhand eines um Abbildungsfehler korrigierten Strahls neue Auftreffpunkte zu berechnen.
申请公布号 DE102009060843(A1) 申请公布日期 2011.06.30
申请号 DE200910060843 申请日期 2009.12.29
申请人 PRUEFTECHNIK DIETER BUSCH AG 发明人 LYSEN, HEINRICH
分类号 G01B11/27;G01B11/00 主分类号 G01B11/27
代理机构 代理人
主权项
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