摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur der Messwerte optischer Ausrichtsysteme mit mindestens zwei Messebenen, die im Strahlengang hintereinander angeordnet sind. Dabei wird von jeder Messebene aus der Strahlengang zur Lichtquelle zurücktransformiert, um anhand eines um Abbildungsfehler korrigierten Strahls neue Auftreffpunkte zu berechnen.
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