摘要 |
Die Reinigung von Pyrazolen der allgemeinen Formel (I)mit der Bedeutung R1, R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, Nitro oder gegebenenfalls durch C1-4-Alkyl, Halogen und/oder Nitro substituiertes C1-20-Alkyl, C3-8-Cycloalkyl, C6-12-Aryl, C7-13-Alkylaryl oder C7-13-Aralkyl, R3 Wasserstoff oder gegebenenfalls durch C1-4-Alkyl, Halogen und/oder Nitro substituiertes C1-20-Alkyl, C3-8-Cycloalkyl, C6-12-Aryl, C7-13-Alkylaryl oder C7-13-Aralkyl erfolgt durch Lösen der Pyrazole der allgemeinen Formel (I) in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel, nachfolgende Umsetzung mit mindestens äquimolaren Mengen einer anorganischen Mineralsäure und/oder einer organischen Säure und Abtrennen der erhaltenen Säureadditionssalze durch Kristallisation.
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