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经营范围
发明名称
METHOD FOR BILAYER RESIST PLASMA ETCH
摘要
申请公布号
IL180025(A)
申请公布日期
2011.06.30
申请号
IL20060180025
申请日期
2006.12.12
申请人
LAM RESEARCH CORPORATION;WENDY NGUYEN;CHRIS LEE
发明人
WENDY NGUYEN;CHRIS LEE
分类号
H01L21/3213
主分类号
H01L21/3213
代理机构
代理人
主权项
地址
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