| 发明名称 | 基片转移装置 | ||
| 摘要 | 在此公开了一种基片转移装置，包括：用于以立式状态转移基片的基片转移单元；以及用于通过向在立式状态的基片的一侧喷射流体而产生的部分压力差所产生的引力保持基片立式状态的基片立式保持单元。根据本发明的基片转移装置能够在处理基片时完全暴露基片的一侧，同时通过基片立式保持单元保持基片的立式状态，从而改善了基片处理的均匀性并因此实现了高质量基片的生产。对于大尺寸基片来说，和以水平状态转移大尺寸基片时的情况相比，当以立式状态转移大尺寸基片时，降低了基片转移装置的安装面积。而且，降低了基片和处理溶液之间的反应时间，由此减少了基片处理时间，并且因此改进了生产率。 | ||
| 申请公布号 | CN102107779A | 申请公布日期 | 2011.06.29 |
| 申请号 | CN201010513859.4 | 申请日期 | 2008.06.19 |
| 申请人 | FNS科技株式会社 | 发明人 | 张大铉;金八坤 |
| 分类号 | B65G49/05(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I;B65G49/07(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | B65G49/05(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 郑建晖;杨勇 |
| 主权项 | 一种基片转移装置，包括：用于以立式状态转移基片的基片转移单元；以及用于通过向在立式状态的基片的一侧喷射流体而产生的部分压力差所产生的引力保持基片立式状态的基片立式保持单元。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道天安市 | ||