| 发明名称 | 一种新型分子筛组合物EMM-12、其制备方法和使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及EMM-12分子筛，呈其合成后原样的形式和煅烧过的形式的该分子筛具有这样的X-射线衍射图，其包括具有在14.17到12.57埃范围内的d-间距最大值的峰，具有在12.1到12.56埃范围内的d-间距最大值的峰，和在约8.85到11.05埃之间的非分立散射，或者在具有在10.14到12.0埃范围内的d-间距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范围内的d-间距最大值的峰之间显示出谷，该谷在最低点的用背景校正的测定强度不小于在连接在10.14到12.0埃范围内的最大值和在8.66到10.13埃范围内的最大值的线上在相同XRD d-间距点的50％。 | ||
| 申请公布号 | CN102112397A | 申请公布日期 | 2011.06.29 |
| 申请号 | CN200980129452.7 | 申请日期 | 2009.07.15 |
| 申请人 | 埃克森美孚化学专利公司 | 发明人 | W·J·罗瑟;D·L·多赛特;G·J·肯尼迪;T·约克;T·E·赫尔登 |
| 分类号 | C01B39/46(2006.01)I;C01B39/48(2006.01)I;B01J29/06(2006.01)I | 主分类号 | C01B39/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 宁家成 |
| 主权项 | 一种分子筛，呈其合成后原样的形式和煅烧过的形式的该分子筛具有这样的X‑射线衍射图，其包括具有在14.17到12.57埃范围内的d‑间距最大值的峰，具有在12.1到12.56埃范围内的d‑间距最大值的峰，和在约8.85到11.05埃之间的非分立散射，或者在具有在10.14到12.0埃范围内的d‑间距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范围内的d‑间距最大值的峰之间显示出谷，该谷在最低点的用背景校正的测定强度不小于在连接在10.14到12.0埃范围内的最大值和在8.66到10.13埃范围内的最大值的线上在相同XRD d‑间距点的50％。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯 | ||