| 发明名称 |
SILICON OXIDE FILM FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND COMPUTER STORAGE MEDIUM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1786030(A4) |
申请公布日期 |
2011.06.29 |
| 申请号 |
EP20050781277 |
申请日期 |
2005.08.30 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
KOBAYASHI, TAKASHI;KITAGAWA, JUNICHI |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/318;H01L21/336;H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/786;H01L29/788;H01L29/792 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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