发明名称 提高透射电子显微镜测试样品研磨效率的方法
摘要 本发明公开了一种提高透射电子显微镜TEM测试样品研磨效率的方法,用于同时研磨多于两个的样品,所述样品为具有预定厚度的矩形样品,包括样品的正面图案和背面的半导体衬底,该方法包括:对于多于两个的样品,其正面或者背面依次相互粘贴构成整体;对样品整体的两个相对侧面进行研磨,缩短样品两相对侧面间的距离;对样品整体的其中一个侧面进行研磨之后,对另一个侧面进行研磨之前,该方法还包括:在研磨之后的样品整体侧面上的目标位置处粘贴多个铜环,用于体现所研磨的每个样品的图案。采用该方法有效提高了TEM测试样品的研磨效率。
申请公布号 CN102109425A 申请公布日期 2011.06.29
申请号 CN200910200990.2 申请日期 2009.12.23
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 于会生;段淑卿;芮志贤;陆冠兰;王玉科
分类号 G01N1/28(2006.01)I 主分类号 G01N1/28(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 牛峥;王丽琴
主权项 一种提高透射电子显微镜测试样品研磨效率的方法,用于同时研磨多于两个的样品,所述样品为具有预定厚度的矩形样品,包括样品的正面图案和背面的半导体衬底,该方法包括:对于多于两个的样品,其正面或者背面依次相互粘贴构成整体;对样品整体的两个相对侧面进行研磨,缩短样品两相对侧面间的距离;其特征在于,对样品整体的其中一个侧面进行研磨之后,对另一个侧面进行研磨之前,该方法还包括:在研磨之后的样品整体侧面上的目标位置处粘贴多个铜环,用于体现所研磨的每个样品的图案。
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