发明名称 多激光系统
摘要 本发明提供了一种多激光系统。所述多激光系统包括:发射第一激光束的第一激光振荡器;发射第二激光束的第二激光振荡器;接收由第一激光振荡器发射的第一激光束并将该入射的第一激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第一扫描器对;接收由第二激光振荡器发射的第二激光束并将该入射的第二激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第二扫描器对;和扫描透镜,所述扫描透镜接收已经从第一和第二扫描器对反射的激光束,将接收的激光束聚焦在具有预定直径的光斑上从而将光斑照射在基片上。
申请公布号 CN101304154B 申请公布日期 2011.06.29
申请号 CN200810091168.2 申请日期 2008.04.07
申请人 EO技术株式会社 发明人 成圭栋
分类号 H01S3/23(2006.01)I;B23K26/067(2006.01)I 主分类号 H01S3/23(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种多激光系统,包括:发射第一激光束的第一激光振荡器;发射第二激光束的第二激光振荡器;接收由第一激光振荡器发射的第一激光束并将该入射的第一激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第一扫描器对;接收由第二激光振荡器发射的第二激光束并将该入射的第二激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第二扫描器对;和扫描透镜,所述扫描透镜接收已经从第一和第二扫描器对反射的激光束,将接收的激光束聚焦在具有预定直径的光斑上从而将光斑照射在基片上;第一往复运动单元和第二往复运动单元,所述第一和第二往复运动单元分别在第一和第二激光束的射束路径上并分别位于第一激光振荡器与第一扫描器对之间以及第二激光振荡器与第二扫描器对之间;所述往复运动单元每一个都包括用于完全阻止入射激光束的射束阻止单元,用于完全允许入射激光束透射的射束透射单元,和用于改变射束阻止单元和射束透射单元中的一个的位置以使得激光束入射在射束阻止单元和射束透射单元中的一个上的运输装置。
地址 韩国京畿道