一种用于光刻设备的对准系统及对准方法

摘要

本发明公开了一种用于光刻设备的对准系统及对准方法，采用了参考标记中间分支为条形光栅和与条形光栅周期相同的菱形或其他形状的阵列组合，形成新形式的参考标记，可以实现两个方向的对准信号扫描，使对准信号信噪比和强度与现有技术中相比得到提高，能量利用率得到提高，得到的对准扫描信号没有出现明显的拐点，有利于后期信号探测和AGC增益等部分的处理，在一定程度上有效的解决了现有技术中出现的问题，提高了对准精度。

主权项

一种用于光刻设备的对准系统，其特征在于，所述对准系统包括：对准辐射源模块；照明模块；对准光学模块；和信号探测模块；所述信号探测模块包括振幅型参考标记、光电探测器和信号处理部分；所述对准辐射源模块提供用于对准的照明光束；所述照明模块传输所述照明光束，该照明光束准直照明硅片或基准板上具有三个不同周期的对准标记；所述对准光学模块采集所述对准标记相应的衍射级次光束并相干成像在所述振幅型参考标记位置；所述信号探测模块通过对所述对准标记衍射光束的相干成像以及相应振幅型参考标记的扫描，探测和处理经过所述振幅型参考标记调制的对准光强信号，该对准光强信号由紧密连接所述振幅型参考标记和所述光电探测器的传输光纤进行传输，利用经过所述振幅型参考标记调制的对准光强信号的相位信息得到所述对准标记中心位置信息；所述振幅型参考标记包括沿X方向依次排列X向第一光栅、X向第三光栅、X向第二光栅；沿与所述X方向垂直的Y方向依次排列Y向第一光栅、Y向第三光栅、Y向第二光栅；所述X向第三光栅与所述Y向第三光栅具有重叠部分，该重叠部分用以实现X和Y两个方向位置扫描。