一种用于溅射镀膜的阴极

摘要

本发明公开了一种用于溅射镀膜的阴极，包括靶材、内部设有腔体的阴极组件、磁铁，所述磁铁位于阴极组件的腔体内，其特征在于：所述磁铁的一个磁极朝向靶材方向，另一个磁极背向靶材方向设置，磁铁朝向靶材的磁极端面为内凹的曲面，使所述靶材位于由磁铁产生的磁场中，磁场的方向垂直于靶材表面。采用本发明的平面溅射镀膜阴极，对磁性和非磁性靶材都能获得更高溅射速率，同时能比较均匀地整体刻蚀靶材、靶材的利用率可以提高到85～90％以上，并有利于薄膜的结晶生长和高品质薄膜的制备；且该溅射镀膜阴极结构简单，既可用于新型溅射镀膜系统的设计制造，也可很方便地用于对现有溅射镀膜阴极的改造，提高镀膜系统的性能和效率。

主权项

一种用于溅射镀膜的阴极，包括靶材、内部设有腔体的阴极组件、磁铁，所述靶材为平面靶材，所述磁铁位于阴极组件的腔体内，所述磁铁的一个磁极朝向靶材方向，另一个磁极背向靶材方向设置，其特征在于：磁铁朝向靶材的磁极端面为内凹的曲面、使所述靶材位于由磁铁产生的磁场中，磁场的方向垂直于靶材表面。