发明名称 一种镀膜的方法及其设备
摘要 本发明公开了一种可以在一次镀膜的过程中,使基片的两面都镀上所需功能的相关薄膜的方法以及实现这种方法的设备。方法主要是在清洗及清洗质量检测步骤和真空环境中的加热、镀膜及冷却步骤之间,还包括有单双面镀膜模式选择步骤。设备主要采用过渡机构连接;该过渡机构包括固定安装在旋转轴上的底板和基片架轨道,底板上固定安装有承载基片架轨道的平移导轨,基片架轨道通过丝杆装置可在平移导轨上前后移动。因此,可以在一次镀膜的过程中,使基片的两面都镀上所需功能的相关薄膜,比现有方式节省一半的生产时间,节约生产线的运行成本,并且大大提高的产品的良率,使产品的成本至少降低30%。
申请公布号 CN102102174A 申请公布日期 2011.06.22
申请号 CN200910189178.4 申请日期 2009.12.21
申请人 深圳新南亚技术开发有限公司 发明人 田晓智;王克斌;姜宁;黄启耀;唐贵民
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种镀膜的方法,包括清洗及清洗质量检测步骤;真空环境中的加热、镀膜及冷却步骤;出片、卸片及质检性能测试步骤,其特征在于:在清洗及清洗质量检测步骤和真空环境中的加热、镀膜及冷却步骤之间,还包括有单双面镀膜模式选择步骤。
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