发明名称 | 磁隧道结及包括它的存储器件 | ||
摘要 | 本发明公开了一种磁隧道结及包括它的存储器件。该磁隧道结器件包括磁可编程自由磁性层。该自由磁性层包含至少两层铁磁层和夹在该至少两层铁磁层之间的至少一中间层的叠层。 | ||
申请公布号 | CN1591673B | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
申请号 | CN200410056683.9 | 申请日期 | 2004.08.12 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 河永寄;李将银;吴世忠;裵晙洙;金炫助;白寅圭 |
分类号 | G11C11/15(2006.01)I | 主分类号 | G11C11/15(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
主权项 | 一种磁隧道结器件,具有一磁可编程自由磁性层,所述磁可编程自由磁性层包括:至少三个材料层的叠层,其中,所述至少三个材料层包括至少两种不同材料的交替叠置层,所述叠层的每一层的厚度小于10埃,该两种不同材料二者均为铁磁的,下部铁磁层是NiFe层,且上部铁磁层是CoFe层;以及与最下部NiFe层接触的一初始CoFe层。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |