| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种新的用于金属抛光的化学机械抛光液。这种抛光液可以通过下列物质组合在一起而形成：研磨颗粒、络合剂及腐蚀抑制剂。使用本发明的浆料的可以降低金属的去除速率，防止金属材料的整体和局部腐蚀，使缺陷明显下降，提高表面质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102101977A | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
| 申请号 | CN200910201381.9 | 申请日期 | 2009.12.18 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;蔡鑫元 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/03(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其包含：研磨颗粒、络合剂及腐蚀抑制剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||