| 发明名称 | 半色调掩模板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了用于制造液晶显示器的半色调掩模板及其制作方法，为得到制作液晶显示器面板薄膜晶体管的沟道时，理想的光刻胶侧面坡度而发明。一种半色调掩膜板包括基板，所述基板包括半透射区域，在所述半透射区域的至少一侧设有与所述半透射区域相邻的非透射区域，其中，所述半透射区域包括位于所述半透射区域边缘的增透射区域；在所述非透射区域设有第一掩膜层，在所述第一掩膜层上设有第二掩膜层，且所述第二掩膜层由非透射区域延伸到所述增透射区域；所述延伸到所述增透射区域的第二掩膜层部分与所述基板相隔；在所述半透射区域设有半透射层，所述半透射层的厚度小于所述第一掩膜层的厚度。所述半色调掩膜板及其制作方法可用于制造液晶显示器。 | ||
| 申请公布号 | CN102103323A | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
| 申请号 | CN200910243802.4 | 申请日期 | 2009.12.21 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 崔承镇;金基用 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F1/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种半色调掩膜板包括基板，其特征在于：所述基板包括半透射区域，在所述半透射区域的至少一侧设有与所述半透射区域相邻的非透射区域，其中，所述半透射区域包括位于所述半透射区域边缘的增透射区域；在所述非透射区域设有第一掩膜层，在所述第一掩膜层上设有第二掩膜层，且所述第二掩膜层由非透射区域延伸到所述增透射区域；所述延伸到所述增透射区域的第二掩膜层部分与所述基板相隔；在所述半透射区域设有半透射层，所述半透射层的厚度小于所述第一掩膜层的厚度。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区西环中路8号 | ||