发明名称 |
辐射源、光刻设备和器件制造方法 |
摘要 |
一种光刻设备(1),包括:源模块(SO),所述源模块包括收集器(CO)和辐射源(105),所述收集器(CO)被配置成收集来自所述辐射源(105)的辐射;照射器(IL),被配置成调节由所述收集器(CO)收集的辐射,且提供辐射束;和检测器(301),设置成相对于所述照射器(IL)具有固定的位置关系,所述检测器(301)被配置成确定所述辐射源(105)相对于所述收集器(CO)的位置和所述源模块(SO)相对于所述照射器(IL)的位置。 |
申请公布号 |
CN102105836A |
申请公布日期 |
2011.06.22 |
申请号 |
CN200980128812.1 |
申请日期 |
2009.07.15 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
M·克拉森;R·格罗内维尔德;A·斯卓克肯;G·斯温克尔斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻设备,所述光刻设备包括:源模块,所述源模块包括收集器和辐射源,所述辐射源被构造和布置以在使用中提供辐射发射等离子体,所述收集器被配置成收集来自所述辐射发射等离子体的辐射;照射器,所述照射器被配置成调节由所述收集器收集的辐射和提供辐射束;和检测器,所述检测器设置成相对于所述照射器具有固定的位置关系,所述检测器被配置成确定所述辐射发射等离子体相对于所述收集器的位置和所述源模块相对于所述照射器的位置。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |