发明名称 |
用于对全芯片图案实施图案分解的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于将包括要印制到晶片上的特征的目标图案分解成多个图案的方法。所述方法包括步骤:将所述目标图案分割成多个小块;识别每个小块内违反最小间隔要求的临界特征;为具有临界特征的所述多个小块中的每一个生成临界组图形,其中给定小块的所述临界组图形限定所述给定小块内的所述临界特征的着色方案,并且所述临界组图形还识别延伸到与所述给定小块相邻的邻接小块的临界特征;对于所述目标图案生成整体临界组图形,所述整体临界组图形包括所述多个小块中的每一个的所述临界组图形和延伸到邻接小块的所述特征的识别;以及基于所述整体临界组图形限定的所述着色方案着色所述目标图案。 |
申请公布号 |
CN101470344B |
申请公布日期 |
2011.06.22 |
申请号 |
CN200810173349.X |
申请日期 |
2008.11.13 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
陈洛祁;陈洪;李江伟;罗伯特·约翰·索卡 |
分类号 |
G03F1/14(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种将目标图案分解成多个图案的方法,其中所述目标图案包含将被印制到晶片上的特征,所述方法包括步骤:将所述目标图案分割成多个小块;对于所述多个小块中的每一个,识别每个小块内违反最小间隔要求的临界特征;为具有临界特征的所述多个小块中的每一个生成临界组图形,给定小块的所述临界组图形限定所述给定小块内的所述临界特征的着色方案,所述临界组图形还识别延伸到与所述给定小块相邻的邻接小块的临界特征;对于所述目标图案生成整体临界组图形,所述整体临界组图形包括所述多个小块中的每一个小块的所述临界组图形和延伸到邻接小块的所述临界特征的识别;和基于所述整体临界组图形限定的所述着色方案着色所述目标图案。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |