| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、一种聚合物和水，其还含有一种用于提高抛光浆料稳定性的稳定剂。本发明的抛光液中，研磨颗粒的粒径随时间延长的增长率低。本发明的化学机械抛光液具有较高的稳定性、较长的存储时间和使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN102101976A | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
| 申请号 | CN200910201378.7 | 申请日期 | 2009.12.18 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;蔡鑫元 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、一种聚合物和水，其特征在于：还含一种用于提高抛光浆料稳定性的稳定剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||