发明名称 |
一种高频晶闸管 |
摘要 |
一种高频晶闸管,包括晶闸管,单晶硅片由P+P1N1P2N2型非对称结构构成,N2区的图形为渐开线图形。单晶硅片采用N型(100)晶向低阻单晶硅片,P+层由P层研磨减薄扩散后构成,P+层厚度为15μm,P层厚度为60μm,单晶硅片的台面造型中,正斜角磨角角度θ1大小为:60 ≦θ1≦80 ,负斜角磨角角度θ2大小为:3.5°≦θ2≦4.5°,P+层端面上设有钛镍金蒸镀层,厚度分别为:Ti:0.2μm、Ni:0.5μm、Au:0.1μm,渐开线图形为2~8条,渐开线附近分布的短路点间距D=0.4mm,直径d=0.08mm。本实用新型晶闸管提高了晶闸管的应用频率,提高产品质量、满足节能降耗的需要。 |
申请公布号 |
CN201877430U |
申请公布日期 |
2011.06.22 |
申请号 |
CN201020626427.X |
申请日期 |
2010.11.26 |
申请人 |
宜昌市晶石电力电子有限公司 |
发明人 |
夏吉夫;崔振森;潘福泉 |
分类号 |
H01L29/74(2006.01)I;H01L29/04(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/74(2006.01)I |
代理机构 |
宜昌市三峡专利事务所 42103 |
代理人 |
成钢 |
主权项 |
一种高频晶闸管,包括晶闸管,其特征在于:单晶硅片(1)由P+P1N1P2N2型非对称结构构成,N2区(4)的图形为渐开线图形。 |
地址 |
443000 湖北省宜昌市西陵区绿萝路18号 |