| 主权项 |
一种湿制程设备，包括：一槽体，用以容置一浸渍液；一第一滚轮，可转动地配置于该槽体内，且与该槽体的底部相距一第一高度，该第一滚轮用以让一材料膜绕于其上；以及一第二滚轮，可转动地配置于该槽体内，且与该槽体的该底部相距一第二高度，该第二高度相异于该第一高度，该第二滚轮用以让该材料膜绕于其上，其中，该第一滚轮及该第二滚轮中的至少一者系可移动地配置于该槽体内，以在一水平方向上移动。如申请专利范围第1项所述之湿制程设备，其中该第一滚轮与该槽体的底部系于一垂直方向上相距该第一高度，该第二滚轮与该槽体的底部系于该垂直方向上相距该第二高度，该第一滚轮之轴心方向实质上平行于该第二滚轮之轴心方向，该水平方向实质上垂直于该垂直方向，且该水平方向实质上垂直于该第一滚轮之轴心方向及该第二滚轮之轴心方向。如申请专利范围第1项所述之湿制程设备，更包括：一滑轨，配置于该槽体之该底部上；以及二线性轴承，可滑动地配置于该滑轨上且彼此相对，该第一滚轮及该第二滚轮的至少该者的两端分别枢接于该二线性轴承。如申请专利范围第1项所述之湿制程设备，其中该第一滚轮系可移动地配置于该槽体内，该湿制程设备更包括：另一第一滚轮，可转动地且可移动地配置于该槽体内，且与该槽体的该底部相距该第一高度，以在该水平方向上移动；以及一连接结构，固定于该第一滚轮与另该第一滚轮。如申请专利范围第4项所述之湿制程设备，更包括：二第一滑轨，分隔地配置于该槽体之该底部上；二第二滑轨，分隔地配置于该槽体之该底部上；二第一线性轴承，可滑动地配置于该些第一滑轨上且彼此相对，该第一滚轮的两端分别枢接于该二第一线性轴承；二第二线性轴承，可滑动地配置于该些第二滑轨上且彼此相对，该第二滚轮的两端分别枢接于该二第二线性轴承；以及二第三线性轴承，可滑动地配置于该些第一滑轨上且彼此相对，另该第一滚轮的两端分别枢接于该二第三线性轴承；其中，该连接结构系固定位于其中一个该第一滑轨上的该第一线性轴承及该第三线性轴承。如申请专利范围第4项所述之湿制程设备，其中该第一滚轮之轴心方向实质上平行于另该第一滚轮之轴心方向。 |
