| 主权项 |
一种低微放射性污染物表面除污装置，其至少包括：一装置本体，中央设有一顶侧开口之容置空间，于该容置空间周缘则环设有一屏蔽空间层，以供储置具隔离效果之液体，而该屏蔽空间层周缘并设有一镂空之非遮蔽通道，以使该容置空间与外部连通；一转盘，设置于该装置本体之容置空间底面上，以供承置待处理之低微放射性污染物，并使其得以于该容置空间转动。如申请专利范围第1项所述之低微放射性污染物表面除污装置，其中该装置本体之屏蔽空间层厚度不小于30公分。如申请专利范围第1或2项所述之低微放射性污染物表面除污装置，其中该装置本体至少于二对侧设有挂钩。如申请专利范围第1或2项所述之低微放射性污染物表面除污装置，其中该屏蔽空间层之底侧设有一排水阀。如申请专利范围第1或2项所述之低微放射性污染物表面除污装置，其中该装置本体之底侧设有一支架。如申请专利范围第1或2项所述之低微放射性污染物表面除污装置，其中该容置空间系呈一圆柱状，而该转盘亦呈一相对之圆盘状。 |
