| 主权项 |
一种位移量测系统，其包含：第一绕射光栅及第二绕射光栅，该位移量测系统经组态以量测在该第一绕射光栅与该第二绕射光栅之间的一位移，其中该量测系统经组态使得：一输入至该量测系统之第一辐射光束由该第一绕射光栅划分为第一阶及负第一阶绕射辐射光束；该第一阶绕射辐射光束及该负第一阶绕射辐射光束由该第二绕射光栅进一步绕射，自该第二绕射光栅往朝向该第一绕射光栅的一方向上反射，且随后经重组以形成一第二辐射光束；一或多个光学组件，经构建以重新定向该第二辐射光束以使得该第二辐射光束入射至该第一绕射光栅，并以相同于该第一辐射光束的方式依序被该第一绕射光栅及第二绕射光栅及随后该第一绕射光栅绕射，以产生一第三辐射光束；一感应器，其经组态以自在源于该第一阶绕射辐射光束之该第三光束之一第一组件与源于该负第一阶绕射辐射光束之该第三光束之一第二组件之间的一相位差之一判定来判定该第一绕射光栅与该第二绕射光栅之该相对位移；及至少一个线形偏振器，其经组态以使得该第三辐射光束之该第一组件及该第二组件线形地偏振且以大体上相互正交之方向定向。如请求项1之位移量测系统，其包含一经组态以线形地偏振该第一阶绕射辐射光束之第一线形偏振器及一经组态以线形地偏振该负第一阶绕射辐射光束之第二线形偏振器。如请求项1之位移量测系统，其中该至少一个线形偏振器经配置以使得自该第一绕射光栅传播之该第一阶绕射辐射光束及该负第一阶绕射辐射光束中的至少一者在入射至该第二绕射光栅之前穿过该至少一个线形偏振器。如请求项1之位移量测系统，其中该第一阶绕射辐射光束及该负第一阶绕射辐射光束由该第一绕射光栅经重组以形成该第二辐射光束。如请求项1之位移量测系统，其中该感应器包含一辐射光束分光器，该辐射光束分光器经构建以将该第三辐射光束分成至少两个辐射子光束，该至少两个辐射子光束的每一者包括该第三辐射光束之该第一组件及该第二组件中的每一者的一部分；其中该至少两个辐射子光束中的一第一者穿过一第一偏振器传递至一第一辐射强度侦测器，该第一偏振器经组态以具有一相对于该辐射光束之该第一组件及该第二组件之该等各别部分的线形偏振的定向为约45°的偏振轴；及其中该至少两个辐射子光束中的一第二者穿过一第一波板及一第二偏振器传递至一第二辐射强度侦测器，该第二偏振器经组态以具有一相对于该辐射光束之该第一组件及该第二组件之该各别部分之线形偏振的该定向为约45°的偏振轴。如请求项5之位移量测系统，其中该第一波板经组态使得一快轴及一慢轴大体上平行于该辐射光束之该第一组件及该第二组件之该各别部分之线形偏振的该定向。如请求项5之位移量测系统，其中该辐射光束分光器经组态以将该第二辐射光束分成三个辐射子光束；及其中该第三辐射子光束穿过一第二波板及一第三偏振器传递至一第三辐射强度侦测器，该第三偏振器经组态以具有一相对于该辐射光束之该第一组件及该第二组件之该等各别部分之线形偏振的该定向为约45°之一偏振轴。如请求项7之位移量测系统，其中该第一波板及该第二波板具有不同厚度以使得该第一波板及该第二波板将在该辐射光束之该第一组件及该第二组件之该等各别部分之间的不同相移分别引入至该第二辐射子光束及该第三辐射子光束。如请求项8之位移量测系统，其中该第二辐射子光束及该第三辐射子光束相对于该第一辐射子光束具有分别引入至该辐射光束之该第一组件及该第二组件之该等各别部分之间的约120°及约240°之相移。如请求项5之位移量测系统，其中该等辐射子光束穿过一共同偏振器。一种经组态以量测在第一组件与第二组件之间的一位移之位移量测系统，该位移量测系统包含：第一狭长绕射光栅及第二狭长绕射光栅，其中该第一组件附着至经定向以使得其狭长方向大体上平行于一第一方向的该第一狭长绕射光栅，且该第二组件附着至经定向以使得其狭长方向大体上平行于一不平行于该第一方向之第二方向的该第二狭长绕射光栅，其中该第二狭长绕射光栅系经组态以接收一来自该第一绕射光栅的绕射辐射光束，并将该绕射辐射光束在朝该第一狭长绕射光栅的一方向上反射；一或多个光学组件，经构建以接收来自该第一狭长绕射光栅的另一绕射辐射光束，并重新定向该另一绕射辐射光束以使得该另一绕射辐射光束入射至该第一狭长绕射光栅，并依序被该第一狭长绕射光栅、第二狭长绕射光栅及随后该第一狭长绕射光栅绕射；及一感应器，其经组态以由该第一狭长绕射光栅及该第二狭长绕射光栅来侦测由至少一个辐射光束之一绕射所产生之一辐射图案；其中该辐射图案指示该第一狭长绕射光栅相对于该第二狭长绕射光栅在一大体上垂直于该第一方向与该第二方向两者之第三方向上之该位移。如请求项11之位移量测系统，其中该辐射图案进一步指示该第一狭长绕射光栅相对于该第二狭长绕射光栅在该第一方向上之该位移。如请求项12之位移量测系统，其中该第一狭长绕射光栅及该第二狭长绕射光栅之条纹大体上垂直于该第一方向。如请求项11之位移量测系统，其中该第一方向大体上垂直于该第二方向。如请求项11之位移量测系统，其经组态以量测该第一组件相对于该第二组件在个六自由度中之该位移。如请求项12之位移量测系统，其进一步包含：一第三狭长绕射光栅，该第三狭长绕射光栅附着至该第一组件且经定向以使得其狭长方向大体上平行于该第一方向；及一第二感应器，其经组态以由该第二狭长绕射光栅及该第三狭长绕射光栅来侦测由至少一个辐射光束之绕射所产生之一第二辐射图案；其中该第二辐射图案指示该第一狭长绕射光栅相对于该第三狭长绕射光栅在该第一方向及该第三方向中的至少一者上之一位移。如请求项16之位移量测系统，其中：该第二辐射图案指示该第一狭长绕射光栅相对于该第三狭长绕射光栅在该第一方向上之该位移；及该位移量测系统经组态以自由该第一辐射图案及该第二辐射图案所指示在该第一方向上之该等位移的一差异来判定该第一组件相对于该第二组件关于一大体上平行于该第三方向之轴之一旋转位移。如请求项17之位移量测系统，其中：该第二辐射图案指示该第一狭长绕射光栅相对于该第三狭长绕射光栅在该第三方向上之该位移；及该位移量测系统自由该第一辐射图案及该第二辐射图案所指示在该第三方向上之该等位移的一差异来判定该第一组件相对于该第二组件关于一大体上平行于该第一方向之轴之一旋转位移。如请求项16之位移量测系统，其进一步包含：一第四狭长绕射光栅，其附着至该第一组件且经定向以使得其狭长方向大体上平行于该第一方向；一第五狭长绕射光栅，其附着至该第二组件且经定向以使得其狭长方向大体上平行于该第二方向；及一第三感应器，其经组态以由该第四狭长绕射光栅及该第五狭长绕射光栅来侦测由至少一个辐射光束之该绕射所产生之一第三辐射图案；其中该第三辐射图案指示该第四狭长绕射光栅相对于该第五狭长绕射光栅在该第一方向、该第二方向及该第三方向中的至少一者上之一位移。如请求项19之位移量测系统，其中该第三辐射图案指示该第四狭长绕射光栅相对于该第五狭长绕射光栅在该第三方向上之一位移；及该位移量测系统自由该第一辐射图案及该第三辐射图案所指示在该第三方向上之该等位移的该差异来判定该第一组件相对于该第二组件之一旋转位移。如请求项19之位移量测系统，其中：该第四及该第五狭长绕射光栅之条纹大体上垂直于该第一方向；及该第三辐射图案指示该第四狭长绕射光栅相对于该第五狭长绕射光栅在该第一方向上之该位移。如请求项21之位移量测系统，其中：该辐射图案指示该第一狭长绕射光栅相对于该第二狭长绕射光栅在该第一方向上之该位移；及该位移量测系统经组态以自由该图案及该第三图案所指示在该第一方向上之该等位移的一平均值来判定该第一组件相对于该第二组件在该第一方向上之该位移。如请求项19之位移量测系统，其中：该第四狭长绕射光栅及该第五狭长绕射光栅之条纹大体上垂直于该第二方向；及该第三辐射图案指示该第四狭长绕射光栅相对于该第五狭长绕射光栅在该第二方向上之该位移。如请求项16之位移量测系统，其进一步包含：一第六狭长绕射光栅，其附着至该第一组件且经定向以使得其狭长方向大体上平行于该第二方向；一第七狭长绕射光栅，其附着至该第二组件且经定向以使得其狭长方向大体上平行于该第一方向；及一第四感应器，其经组态以由该第六狭长绕射光栅及该第七狭长绕射光栅来侦测由至少一个辐射光束之绕射所产生之一第四辐射图案；其中该第四辐射图案指示该第六狭长光栅相对于该第七狭长绕射光栅在该第一方向、该第二方向及该第三方向中的至少一者上之该位移。如请求项24之位移量测系统，其中：该第四辐射图案指示该第六狭长绕射光栅相对于该第七狭长绕射光栅在该第三方向上之该位移；及该位移量测系统经组态以自由该辐射图案及该第四辐射图案所指示在该第三方向上之位移的一差异来判定该第一组件相对于该第二组件之一旋转位移。如请求项24之位移量测系统，其中：该第六及该第七狭长绕射光栅之条纹大体上垂直于该第一方向；及该第四辐射图案指示该第六狭长绕射光栅相对于该第七狭长绕射光栅在该第一方向上之该位移。如请求项24之位移量测系统，其中：该第六狭长绕射光栅及该第七狭长绕射光栅之条纹大体上垂直于该第二方向；及该第四辐射图案指示该第六狭长绕射光栅相对于该第七狭长绕射光栅在该第二方向上之该位移。一种经组态以量测一第一物件相对于一第二物件之一移动的位移量测系统，其包含：一第一平面绕射光栅，其安装至该第一物件；一第二平面绕射光栅，其安装至该第二物件且大体上平行于该第一平面绕射光栅；及一提供一第一辐射光束之源；其中该第一辐射光束入射至该第一绕射光栅之一第一点上且经绕射以使得第一阶及负第一阶绕射辐射入射至该第二平面绕射光栅上；其中该第二平面绕射光栅经组态以使得：自该第一平面绕射光栅之该第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一平面绕射光栅之一第二点上；自该第一平面绕射光栅之该负第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一绕射光栅之该第二点上；及其中源于自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射的辐射与源于自该第一平面绕射光栅之该负第一阶绕射辐射的辐射两者由该第一平面绕射光栅进一步绕射且以一与一第二辐射光束之共同方向自该第一平面绕射光栅之该第二点传播；一或多个光学组件，经构建以重新定向该第二辐射光束以使得该第二辐射光束入射至该第一平面绕射光栅，并以相同于该第一辐射光束的方式依序被该第一平面绕射光栅及第二平面绕射光栅及随后该第一平面绕射光栅绕射，以产生一第三辐射光束；及一感应器，经组态以侦测源于该第一平面绕射光栅之该第二点之一辐射图案，该辐射图案指示在一平行于该第一平面绕射光栅与第二平面绕射光栅之平面且垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之条纹的方向上该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该等相对移动。如请求项28之位移量测系统，其中该第二平面绕射光栅之一间距近似于该第一平面绕射光栅之一间距的一半。如请求项28之位移量测系统，其中该第二平面绕射光栅为反射性的。如请求项28之位移量测系统，其进一步包含一第一偏振器，该第一偏振器经组态以偏振自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射及该负第一阶绕射辐射中的一者的该辐射。如请求项31之位移量测系统，其中该第一偏振器安装至该第二平面绕射光栅。如请求项31之位移量测系统，其进一步包含一第二偏振器，该第二偏振器经组态以偏振未由该第一偏振器所偏振之自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射及该负第一阶绕射辐射中的另一者的该辐射；其中该第一偏振器经组态以偏振在一第一定向上之辐射且该第二偏振器经组态以偏振在一大体上正交于该第一定向之第二定向上的辐射。如请求项28之位移量测系统，其中经组态以重定向该第二辐射光束之该或该等光学组件包含一角隅棱镜、一棱镜及一平面反射器中的至少一者。如请求项28之位移量测系统，其中该感应器经组态以侦测源于当该第一光束入射至该第一平面绕射光栅上时所产生之零阶辐射的一辐射且基于该侦测之辐射藉由比较源于该零阶之该辐射与自该第一阶及该负第一阶中的至少一者之辐射的一光束路径长度来判定该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅在一大体上垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该平面之方向上的该相对移动。如请求项28之位移量测系统，其中：该第一平面绕射光栅及该第二平面绕射光栅为反射性的；且该第二平面绕射光栅被分为两个部分以使得该第一辐射光束在该第二平面绕射光栅之该两个部分之间传递，自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射由该第二平面绕射光栅之该第一部分反射且自该第一平面绕射光栅之该负第一阶绕射辐射由该第二平面绕射光栅之该第二部分反射。如请求项28之位移量测系统，其中该第一平面绕射光栅及该第二平面绕射光栅、该源、该或该等光学组件及该感应器共同形成一第一位移量测感应器，该第一位移量测感应器量测该第一平面绕射光栅及该第二平面绕射光栅在一大体上平行于该等平面绕射光栅之该平面且大体上垂直于该等平面绕射光栅之条纹的第一方向上之该相对移动，且该位移量测系统进一步包含：一第二位移量测感应器，该第二位移量测感应器的第三平面绕射光栅及第四平面绕射光栅以分别大体上平行于该第一平面绕射光栅及该第二平面绕射光栅之该平面的方式安装至该第一物件及该第二物件且使得该第一平面绕射光栅及该第二平面绕射光栅之条纹大体上垂直于该第三平面绕射光栅及该第四平面绕射光栅之条纹；其中该第二位移量测感应器量测该第三平面绕射光栅及该第四平面绕射光栅在一大体上平行于该等平面绕射光栅之该平面且大体上垂直于该第一方向之第二方向上的一相对移动。如请求项37之位移量测系统，其中该第一位移量测感应器及该第二位移量测感应器共用一共同辐射源。一种微影设备，包含：一辐射源，其经组态以提供一辐射光束；一支撑，其经组态以支撑一图案化结构，该图案化结构经组态以在该辐射光束中产生一所需图案；一基板桌，其经组态以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化光束投影至该基板的一目标部分；及一位移量测系统，其经组态以量测该微影装置之一第一组件相对于该微影装置之一第二组件的一位移’该位移量测系统包含：第一狭长绕射光栅及第二狭长绕射光栅，其中该第一组件附着至经定向以使得其狭长方向大体上平行于一第一方向的该第一狭长绕射光栅，且该第二组件附着至经定向以使得其狭长方向大体上平行于一不平行于该第一方向之第二方向的该第二狭长绕射光栅，其中该第二狭长绕射光栅系经组态以接收一来自该第一狭长绕射光栅的绕射辐射光束，并将该绕射辐射光束在朝该第一狭长绕射光栅的一方向上反射；一或多个光学组件，经构建以接收来自该第一狭长绕射光栅的另一绕射辐射光束，并重新定向该第另一绕射辐射光束以使得该另一绕射辐射光束入射至该第一狭长绕射光栅，并依序被该第一狭长绕射光栅、第二狭长绕射光栅及随后该第一狭长绕射光栅绕射；及一感应器，其经组态以由该第一狭长绕射光栅及该第二狭长绕射光栅来侦测由至少一个辐射光束之该绕射所产生之一辐射图案；其中该辐射图案指示该第一狭长绕射光栅相对于该第二狭长绕射光栅在一大体上垂直于该第一方向与该第二方向两者之第三方向上之该位移。一种微影设备，包含：一辐射源，其经组态以提供一辐射光束；一支撑，其经组态以支撑一图案化结构，该图案化结构经组态以在该辐射光束中产生一所需图案；一基板桌，其经组态以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化光束投影至该基板的一目标部分；及一位移量测系统，其经组态以量测一第一物件相对于一第二物件之一移动，该位移量测系统包含：一第一平面绕射光栅，其安装至该第一物件；一第二平面绕射光栅，其安装至该第二物件且大体上平行于该第一平面绕射光栅；及一提供一第一辐射光束之源；其中该第一辐射光束入射至该第一平面绕射光栅之一第一点上且经绕射以使得第一阶及负第一阶绕射辐射入射至该第二平面绕射光栅上；其中该第二平面绕射光栅经组态以使得：自该第一平面绕射光栅之该第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一平面绕射光栅之一第二点上；自该第一平面绕射光栅之该负第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一绕射光栅之该第二点上；及其中源于自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射的辐射与源于自该第一平面绕射光栅之该负第一阶绕射辐射的辐射两者由该第一平面绕射光栅进一步绕射且以一与一第二辐射光束之共同方向自该第一平面绕射光栅之该第二点传播；一或多个光学组件，经构建以重新定向该第二辐射光束以使得该第二辐射光束入射至该第一平面绕射光栅，并以相同于该第一辐射光束的方式依序被该第一平面绕射光栅及第二平面绕射光栅及随后该第一平面绕射光栅绕射，以产生一第三辐射光束；及一感应器，经组态以侦测源于该第一平面绕射光栅之该第二点之一辐射图案，该辐射图案指示在一平行于该第一平面绕射光栅与第二平面绕射光栅之平面且垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之条纹的方向上该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该等相对移动。一种位移量测系统，其包含：第一绕射光栅及第二绕射光栅，该位移量测系统经组态以量测在该第一绕射光栅与该第二绕射光栅之间的一位移，其中该量测系统经组态使得：一输入至该量测系统之第一辐射光束由该第一绕射光栅划分为第一阶及负第一阶绕射辐射光束；该第一阶绕射辐射光束及该负第一阶绕射辐射光束由该第二绕射光栅进一步绕射，自该第二绕射光栅往朝向该第一绕射光栅的一方向上反射，且随后经重组以形成一第二辐射光束；一感应器，其经组态以自在源于该第一阶绕射辐射光束之该第二光束之一第一组件与源于该负第一阶绕射辐射光束之该第二光束之一第二组件之间的一相位差之一判定来判定该第一光栅与该第二光栅之该相对位移；及至少一个线形偏振器，其经组态以使得该第二辐射光束之该第一组件及该第二组件线形地偏振且以大体上相互正交之方向定向；其中该感应器经组态以侦测源于当该第一光束入射至该第一绕射光栅上时所产生之零阶辐射的一辐射且基于该侦测之辐射藉由比较源于该零阶之该辐射与自该第一阶及该负第一阶中的至少一者之辐射的一光束路径长度来判定该第一绕射光栅与该第二绕射光栅在一大体上垂直于该第一绕射光栅与该第二绕射光栅之一平面之方向上的该相对移动。一种经组态以量测一第一物件相对于一第二物件之一移动的位移量测系统，其包含：一第一平面绕射光栅，其安装至该第一物件；一第二平面绕射光栅，其安装至该第二物件且大体上平行于该第一平面绕射光栅；及一提供一第一辐射光束之源；其中该第一辐射光束入射至该第一绕射光栅之一第一点上且经绕射以使得第一阶及负第一阶绕射辐射入射至该第二平面绕射光栅上；其中该第二平面绕射光栅经组态以使得：自该第一平面绕射光栅之该第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一平面绕射光栅之一第二点上；自该第一平面绕射光栅之该负第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一平面绕射光栅之该第二点上；及其中源于自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射的辐射与源于自该第一平面绕射光栅之该负第一阶绕射辐射的辐射两者由该第一平面绕射光栅进一步绕射且以一与一第二辐射光束之共同方向自该第一平面绕射光栅之该第二点传播；一感应器，经组态以侦测源于该第一平面绕射光栅之该第二点之一辐射图案，该辐射图案指示在一平行于该第一平面绕射光栅与第二平面绕射光栅之平面且垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之条纹的方向上该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该等相对移动，其中该感应器经组态以侦测源于当该第一光束入射至该第一平面绕射光栅上时所产生之零阶辐射的一辐射且基于该侦测之辐射藉由比较源于该零阶之该辐射与自该第一阶及该负第一阶中的至少一者之辐射的一光束路径长度来判定该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅在一大体上垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该平面之方向上的该相对移动。一种微影设备，包含：一辐射源，其经组态以提供一辐射光束；一支撑，其经组态以支撑一图案化结构，该图案化结构经组态以在该辐射光束中产生一所需图案；一基板桌，其经组态以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化光束投影至该基板的一目标部分；及一种经组态以量测一第一物件相对于一第二物件之一移动的位移量测系统，其包含：一第一平面绕射光栅，其安装至该第一物件；一第二平面绕射光栅，其安装至该第二物件且大体上平行于该第一平面绕射光栅；及一提供一第一辐射光束之源；其中该第一辐射光束入射至该第一平面绕射光栅之一第一点上且经绕射以使得第一阶及负第一阶绕射辐射入射至该第二平面绕射光栅上；其中该第二平面绕射光栅经组态以使得：自该第一平面绕射光栅之该第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一平面绕射光栅之一第二点上；自该第一平面绕射光栅之该负第一阶辐射的至少一部分由该第二平面绕射光栅进一步绕射，其自该第二平面绕射光栅在一朝该第一平面绕射光栅之方向上反射，且入射至该第一平面绕射光栅之该第二点上；及其中源于自该第一平面绕射光栅之该第一阶绕射辐射的辐射与源于自该第一平面绕射光栅之该负第一阶绕射辐射的辐射两者由该第一平面绕射光栅进一步绕射且以一与一第二辐射光束之共同方向自该第一平面绕射光栅之该第二点传播；一感应器，经组态以侦测源于该第一平面绕射光栅之该第二点之一辐射图案，该辐射图案指示在一平行于该第一平面绕射光栅与第二平面绕射光栅之平面且垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之条纹的方向上该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该等相对移动，其中该感应器经组态以侦测源于当该第一光束入射至该第一平面绕射光栅上时所产生之零阶辐射的一辐射且基于该侦测之辐射藉由比较源于该零阶之该辐射与自该第一阶及该负第一阶中的至少一者之辐射的一光束路径长度来判定该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅在一大体上垂直于该第一平面绕射光栅与该第二平面绕射光栅之该平面之方向上的该相对移动。 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