| 主权项 |
一种滤光装置，其包括一基底及一滤光膜，该滤光膜设置于该基底之一侧，该滤光膜包括顺序叠加于该基底表面的七个第一滤光腔、七个第二滤光腔、六个第三滤光腔及六个第四滤光腔，所述第一滤光腔、第二滤光腔、第三滤光腔及第四滤光腔分别由一层高折射率材料膜层与一层低折射率材料膜层叠加而成，其改进在于，该第一滤光腔、第二滤光腔、第三滤光腔及第四滤光腔中的高、低折射率材料膜层之厚度系以紫外线及红外线波长为基础，藉由相应基准厚度系数优化所得，且该第一滤光腔、第二滤光腔、第三滤光腔及第四滤光腔中的高、低折射率材料膜层的基准厚度系数均依次为3.5、2.5、1及0.76，该第一滤光腔、第二滤光腔、第三滤光腔及第四滤光腔的基准厚度系数均为1。如申请专利范围第1项所述之滤光装置，其中，该滤光膜中高折射率材料与低折射率材料之膜层总数为52层。如申请专利范围第1项所述之滤光装置，其中，该滤光装置还包括一抗反射膜层。如申请专利范围第3项所述之滤光装置，其中，该抗反射膜层设置于基底上且与滤光膜相对之一侧。如申请专利范围第3项所述之滤光装置，其中，该抗反射膜层设置于基底与滤光膜之间。如申请专利范围第3项所述之滤光装置，其中，该抗反射膜层设置于滤光膜上且与基底相对之一侧。如申请专利范围第3项所述之滤光装置，其中，该抗反射膜层系由高折射率材料膜层与低折射率材料膜层交替叠加而成。如申请专利范围第3项所述之滤光装置，其中，该抗反射膜层中高折射率材料与低折射率材料之膜层总数为四层。如申请专利范围第8项所述之滤光装置，其中，该抗反射膜层之各膜层排布依次为0.301 λ/4光学厚度之高折射率材料、0.421 λ/4光学厚度之低折射率材料、2.546 λ/4光学厚度之高折射率材料、1.137 λ/4光学厚度之低折射率材料。如申请专利范围第1项所述之滤光装置，其中，该高折射率材料包括TiO2、Ti3O5或Ta2O5等，该低折射率材料包括SiO2或Al2O3。 |
