发明名称 | 平台装置与曝光装置,以及元件制造方法 | ||
摘要 | 本发明是有关于一种平台装置与曝光装置,以及元件制造方法。该平台(RST),是一面浮动于平板的上方一面支撑光栅,并可移动于二维面内的三自由度方向,框状构件是以浮动于平板的上方可移动于二维面内的三自由度方向。在框状构件设置第一定子(1361~1382)、第二定子(1401、1402),在平台设第一可动元件、第二可动元件以与第一定子、第二定子各自协动以产生使平台于二维面内驱动的驱动力。因此,由平台的驱动的反力作用于第一或第二定子,由此反力框状构件大略依照动量守恒定律在二维面内移动。藉此,由平台的移动的反力可大略完全加以消除的同时,不产生包含平台及框状构件系统的重心移动的关系,偏负载亦不会作用在平板。 | ||
申请公布号 | CN102103331A | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
申请号 | CN201010608474.6 | 申请日期 | 2004.01.26 |
申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 柴崎祐一 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
主权项 | 一种平台装置,其特征在于其包括:滑块,在载置面载置物体并可以移动;一对第一可动元件,对于前述滑块的前述载置面对称配置;一对第二可动元件,与前述一对第一可动元件相异,对于前述滑块的前述载置面对称配置;一对定子部,与前述一对第一可动元件与前述一对第二可动元件协动以使前述滑块于第一轴方向驱动。 | ||
地址 | 日本东京千代田区丸之内3丁目2番3号 |