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一种双模式工作之电浆反应器装置，其至少包括有：一高压电源装置；一气体输入缓冲空腔；一气体漩流空腔，该气体漩流空腔系设置于该气体输入缓冲空腔内，该气体漩流空腔系包含两个或多个气体输入埠；一第一电极，该第一电极系设置于该气体漩流空腔内，并与该高压电源装置电性耦接，且于其表面覆盖一第一绝缘层；一第二电极，该第二电极系设置于该气体漩流空腔内，并与该第一电极相对应，且系接地电极，而该第二电极之中心系设置有一中空圆柱通道，又于第二电极表面覆盖一第二绝缘层；一绝缘间隔层，该绝缘间隔层系设置于该第一电极与该第二电极之间；以及一磁场产生装置，该磁场产生装置系设置于该第一电极之外侧。依申请专利范围第1项所述之双模式工作之电浆反应器装置，其中，当高压放电产生电浆之时，于低工作电流情形下，主要为产生丝光放电于两平板间之气体漩流空腔，此时为丝光放电工作模式；但若再提升放电功率产生电浆时，随工作电流之升高，此时将转为火花放电，其放电主要产生于两电极间之中空圆柱通道，此时为火花放电工作模式。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该气体漩流空腔之两个或多个气体输入埠系采圆对称设置，以近切线角度钻孔穿透该绝缘间隔层，其口径约在1mm左右；而一工作气体系从该两个或多个气体输入埠通入，于该绝缘间隔层与该第一、二电极所构成之一放电空间内形成高速漩流，以加长该工作气体在该放电空间内的放电路径，增加碰撞次数产生更多活性自由基。依申请专利范围第2项所述之电浆装置，其中，该工作气体系可为氧气、氮气、空气、氦气、氩气或四氟化碳等乾燥气体，也可视欲清洁物件之污染性质而添加水气调整混合之。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该第一电极与该第二电极系由一金属导电材质所制成，而该金属材质可为不导磁之铜合金，且该电极之厚度可视实际运作考量之，厚度可为3~5mm。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该绝缘间隔层之材质系可为铁弗龙(PTFE)、聚芳醚酮(PEEK)或聚乙烯(PE)等，且该绝缘间隔层之厚度可视实际高压运作及放电间隙距离考量之，而该绝缘间隔层之厚度可为0.5~3mm。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该高压电源装置所产生之放电间隙距离可为0.3~1cm。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该中空圆柱通道系由电绝缘材质所组成，该电绝缘材质可为铁弗龙(PTFE)、聚芳醚酮(PEEK)、聚乙烯(PE)或同类型绝缘材质，其通道内直径可为0.5~1.5cm，且该中空圆柱通道之出口亦可逐渐缩小成一喷嘴状，提升气体于出口端之流速，其喷嘴口直径可为0.3~0.8cm。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该磁场产生装置可为一永久磁铁，或一可由电流控制磁场大小之通电线圈磁铁。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该气体输入缓冲空腔除提供一气体输入缓冲空间外，更系为一联结该第一电极、该第二电极与该磁场产生装置之绝缘固定装置，其材质可为铁弗龙(PTFE)、聚芳醚酮(PEEK)等可机械加工制作之绝缘材料。依申请专利范围第1项所述之电浆装置，其中，该高压电源装置系为一高压高频(>1kHz)交流电源装置。 |
