发明名称 用于变换数值孔径之光学系统
摘要
申请公布号 TWI344062 申请公布日期 2011.06.21
申请号 TW096102729 申请日期 2007.01.24
申请人 ASML控股公司 发明人 由利 瓦拉狄米斯基;雷夫 拉席考夫
分类号 G03B7/20;G02B27/42 主分类号 G03B7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种光学系统,其包含:一光学元件,其经构建以接收一光束且自该光束产生复数个光束,其中该光学元件包含一光瞳界定元件;一第一透镜中继器,其具有经串联配置之第一透镜阵列及第二透镜阵列,且经构建以接收该复数个光束且将该复数个光束在一影像平面上再成像为复数个对应光束,该复数个对应光束中的每一者具有一小于该复数个光束中的每一者之一数值孔径的数值孔径;一第一聚光器,其聚光该复数个对应光束;一场界定元件,其接收该经聚光之复数个光束且自该经聚光之复数个光束产生一场界定光束;一第二透镜中继器,其具有经串联配置之第三透镜阵列及第四透镜阵列,且经构建以接收该场界定光束且自该场界定光束产生另一复数个对应光束,该另一复数个对应光束中的每一者具有一小于该场界定光束之一数值孔径的数值孔径;一第二聚光器,其接收且聚光该另一复数个对应光束;及一中继器,其接收该经聚光之另一复数个对应光束且将该经聚光之另一复数个对应光束导向至一图案化设备上。如请求项1之光学系统,其中该光学元件包含一绕射或折射光学元件。如请求项1之光学系统,其中该第一透镜阵列及该第二透镜阵列包含复眼透镜。如请求项1之光学系统,其中该第一透镜阵列及该第二透镜阵列经组态以在该光学系统内维持双聚焦远心。如请求项1之光学系统,其中该图案化设备包含一可个别控制元件阵列。如请求项1之光学系统,其中该第一及第二透镜中继器经组态以将该复数个对应光束中的每一对应光束导向至该影像平面之对应部分上。如请求项1之光学系统,其中该影像平面系共轭于该光学元件。一种光学系统,其包含:一光学元件,其经构建以接收一光束且自该光束产生复数个光束,其中该光学元件包含一场界定元件;一透镜中继器,其具有经串联配置之第一透镜阵列及第二透镜阵列,且经构建以接收该复数个光束且将该复数个光束在一影像平面上再成像为复数个对应光束,该复数个对应光束中的每一者具有一小于该复数个光束中的每一者之一数值孔径的数值孔径;一光瞳界定元件,其经定位以自一辐射源接收一光束且自该光束产生一光瞳界定光束;一第一聚光器,其聚光该光瞳界定光束且导向该经聚光之光瞳界定光束为由该场界定元件接收之该光束;一第二聚光器,其接收且聚光该复数个对应光束;及一中继器,其接收该经聚光之复数个对应光束且将该经聚光之复数个对应光束导向至一图案化设备上。如请求项8之光学系统,其中该光学元件包含一绕射或折射光学元件。如请求项8之光学系统,其中该等透镜阵列包含复眼透镜。如请求项8之光学系统,其中该等透镜阵列经组态以在该光学系统内维持双聚焦远心。如请求项8之光学系统,其中该图案化设备包含一可个别控制元件阵列。如请求项8之光学系统,其中该透镜中继器经组态以将该复数个对应光束中的每一对应光束导向至该影像平面之对应部分上。如请求项8之光学系统,其中该图案化设备包含一可个别控制元件阵列。一种照明系统,其包含:一光学元件,其经构建以接收一光束且自该光束产生复数个光束,其中该光学元件包含一光瞳界定元件;一透镜中继器,其具有经串联配置之第一透镜阵列及第二透镜阵列,且经构建以接收该复数个光束且将该复数个光束在一影像平面上再成像为复数个对应光束,该复数个对应光束中的每一者具有一小于该复数个光束中的每一者之一数值孔径的数值孔径;一光学系统,其定位于该光学中继器之后且经构建以调节该复数个对应光束;一图案化设备,其图案化该经调节之光束;及一投影系统,其将该经图案化之光束投影至一基板之一目标区上。如请求项15之照明系统,其中该光学元件包含一绕射或折射光学元件。如请求项15之照明系统,其中该等透镜阵列包含复眼透镜。如请求项15之照明系统,其中该等透镜阵列经组态以在该光学系统内维持双聚焦远心。如请求项15之照明系统,其中该图案化设备包含一可个别控制元件阵列。如请求项15之照明系统,其中该透镜中继器经组态以将该复数个对应光束中的每一对应光束导向至该影像平面之对应部分上。如请求项15之照明系统,其中该图案化设备包含一可个别控制元件阵列。
地址 荷兰