发明名称 METHOD AND DEVICE FOR FORMING SILICON DOT AND SILICON DOT AND METHOD AND DEVICE FOR FORMING SUBSTRATE WITH INSULATING FILM
摘要
申请公布号 KR101043009(B1) 申请公布日期 2011.06.21
申请号 KR20097009409 申请日期 2007.10.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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