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发明名称
METHOD AND DEVICE FOR FORMING SILICON DOT AND SILICON DOT AND METHOD AND DEVICE FOR FORMING SUBSTRATE WITH INSULATING FILM
摘要
申请公布号
KR101043009(B1)
申请公布日期
2011.06.21
申请号
KR20097009409
申请日期
2007.10.29
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;H01L21/8247;H01L27/115
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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