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发明名称 Method of thermal vapour deposition using resist
摘要
申请公布号 KR101042849(B1) 申请公布日期 2011.06.17
申请号 KR20030094159 申请日期 2003.12.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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