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发明名称 High density plasma chemical vapor deposition apparatus for generating uniform thin film
摘要
申请公布号 KR101040939(B1) 申请公布日期 2011.06.16
申请号 KR20030083905 申请日期 2003.11.25
申请人 发明人
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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