Fluorinated Monomer Having Cyclic Structure, Making Method, Polymer, Photoresist Composition and Patterning Process,申请号KR20050101930-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Fluorinated Monomer Having Cyclic Structure, Making Method, Polymer, Photoresist Composition and Patterning Process
摘要
申请公布号	KR101042460(B1)	申请公布日期	2011.06.16
申请号	KR20050101930	申请日期	2005.10.27
申请人		发明人
分类号	G03F7/039;G03F7/004	主分类号	G03F7/039
代理机构		代理人
主权项
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