发明名称 POLISHING UNIT, SUBSTRATE POLISHING APPARATUS HAVING THE SAME AND METHOD OF POLISHING SUBSTRATE USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR101041874(B1) 申请公布日期 2011.06.16
申请号 KR20080119383 申请日期 2008.11.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/304;H01L21/02;H01L21/302 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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