发明名称 |
电子材料用Cu-Co-Si系铜合金及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种Cu-Co-Si系合金,其具备适合作为电子材料用铜合金的机械及电特性,且机械特性均一。电子材料用铜合金含有Co:0.5~4.0质量%、Si:0.1~1.2质量%,余部包括Cu及不可避免的杂质。平均结晶粒径为15~30μm,每0.5mm2观察视野的最大结晶粒径与最小结晶粒径的差的平均在10μm以下。 |
申请公布号 |
CN102099499A |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN201080002031.0 |
申请日期 |
2010.02.17 |
申请人 |
JX日矿日石金属株式会社 |
发明人 |
恩田拓磨;桑垣宽 |
分类号 |
C22C9/06(2006.01)I;C22C9/00(2006.01)I;C22C9/01(2006.01)I;C22C9/02(2006.01)I;C22C9/04(2006.01)I;C22C9/05(2006.01)I;C22C9/10(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I;C22F1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C22C9/06(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
卢曼;李炳爱 |
主权项 |
电子材料用铜合金,其含有Co:0.5~4.0质量%、Si:0.1~1.2质量%,余部包括Cu及不可避免的杂质,其中,平均结晶粒径为15~30μm,每0.5mm2观察视野的最大结晶粒径与最小结晶粒径的差的平均在10μm以下。 |
地址 |
日本东京都 |